电离层的总电子含量预测方法、装置、设备及存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110040079.0

申请日：

2021-01-13

公开(公告)号：

CN112862159A

公开(公告)日：

2021-05-28

发明(设计)人：

舒颖闵阳曹成度滕焕乐吴石军马龙郑跃

申请人：

申请人地址：

430060 湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号

IPC主分类号：

G06Q1004

IPC分类号：

G06F3027

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

吴薇薇;张颖玲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-28	公开	公开
2021-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q 10/04 申请日:20210113

共 50 条

[1]

电离层TEC的预测方法、装置、设备及存储介质 [P].

戴志强 ;

谢婷 ;

朱祥维 ;

李芳 .

中国专利 :CN114528978A ,2022-05-24

[2]

一种全球电离层电子总含量预测的算法 [P].

王志鹏 ;

王成 ;

薛开宇 ;

方堃 .

中国专利 :CN111651941B ,2020-09-11

[3]

一种全球电离层垂直总电子含量预测方法和装置 [P].

吴晗 ;

刘冰雨 ;

周光宇 ;

崔红正 ;

王健 ;

白雪峰 ;

简宏涛 .

中国专利 :CN117892157A ,2024-04-16

[4]

电离层扰动等级的预测方法及装置、设备及介质 [P].

王一帆 ;

叶寿洪 ;

王国芳 ;

马仲松 ;

尹时运 ;

陈星 ;

孙建文 ;

卢操 ;

曹俊 ;

耿浩 ;

邓伟昉 .

中国专利 :CN120804647A ,2025-10-17

[5]

区域电离层建模方法、装置及存储介质 [P].

郑凯 ;

安鑫 ;

李坤凡 ;

陈嘉瑞 ;

钟逸 .

中国专利 :CN120161484A ,2025-06-17

[6]

电离层延迟计算方法、存储介质及电子设备 [P].

王献中 ;

曾相航 ;

张研 ;

陈孔哲 ;

王亮亮 ;

李丽媛 .

中国专利 :CN118778070A ,2024-10-15

[7]

电离层延迟确定方法、装置、设备、存储介质及产品 [P].

知男 ;

吕柱旺 ;

郭海林 .

中国专利 :CN119738840A ,2025-04-01

[8]

电离层实时地图的构建方法、装置、设备及存储介质 [P].

佘承莉 ;

周培源 ;

于俊 ;

张铭彬 ;

胡金林 ;

崔红正 .

中国专利 :CN112731512B ,2021-04-30

[9]

电离层闪烁确定方法、装置、设备及介质 [P].

石昌 ;

王寅 ;

范金涛 ;

吕丹丹 ;

瞿佳 .

中国专利 :CN118294986B ,2024-08-23

[10]

电离层闪烁确定方法、装置、设备及介质 [P].

石昌 ;

王寅 ;

范金涛 ;

吕丹丹 ;

瞿佳 .

中国专利 :CN118294986A ,2024-07-05

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