一种反应室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202120245953.X
申请日
2021-01-28
公开(公告)号
CN215249591U
公开(公告)日
2021-12-21
发明(设计)人
孙华
申请人
申请人地址
201401 上海市奉贤区肖塘路255弄10号1层
IPC主分类号
C01B32186
IPC分类号
代理机构
北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543
代理人
白鹤
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN214611555U ,2021-11-05
[2]
一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN214244667U ,2021-09-21
[3]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN112723347B ,2024-10-29
[4]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN112723347A ,2021-04-30
[5]
一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN112779598A ,2021-05-11
[6]
一种弹性气密件及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备 [P]. 
孙华 .
中国专利 :CN214244668U ,2021-09-21
[7]
一种CVD沉积石墨烯膜的规模化生产方法 [P]. 
孟怡楠 ;
谭化兵 ;
刘海滨 ;
沈大勇 ;
王炜 .
中国专利 :CN105603384B ,2016-05-25
[8]
一种石墨烯薄膜连续规模化沉积设备 [P]. 
王宏飞 ;
戚顺昌 ;
吴洪 .
中国专利 :CN205295454U ,2016-06-08
[9]
一种规模化制备石墨烯薄膜的夹具 [P]. 
李占成 ;
高翾 ;
张永娜 ;
黄德萍 ;
姜浩 ;
朱鹏 ;
邵丽 ;
史浩飞 .
中国专利 :CN204324893U ,2015-05-13
[10]
一种CVD生长大面积石墨烯的规模化方法 [P]. 
任文才 ;
马来鹏 ;
成会明 .
中国专利 :CN105883779B ,2016-08-24