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一种反应室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202120245953.X
申请日
:
2021-01-28
公开(公告)号
:
CN215249591U
公开(公告)日
:
2021-12-21
发明(设计)人
:
孙华
申请人
:
申请人地址
:
201401 上海市奉贤区肖塘路255弄10号1层
IPC主分类号
:
C01B32186
IPC分类号
:
代理机构
:
北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543
代理人
:
白鹤
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-21
授权
授权
共 50 条
[1]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
0
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0
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0
孙华
.
中国专利
:CN214611555U
,2021-11-05
[2]
一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
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0
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0
孙华
.
中国专利
:CN214244667U
,2021-09-21
[3]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
孙华
孙华
孙华
.
中国专利
:CN112723347B
,2024-10-29
[4]
一种CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
0
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0
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0
孙华
.
中国专利
:CN112723347A
,2021-04-30
[5]
一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
0
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0
孙华
.
中国专利
:CN112779598A
,2021-05-11
[6]
一种弹性气密件及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[P].
孙华
论文数:
0
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0
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0
孙华
.
中国专利
:CN214244668U
,2021-09-21
[7]
一种CVD沉积石墨烯膜的规模化生产方法
[P].
孟怡楠
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孟怡楠
;
谭化兵
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谭化兵
;
刘海滨
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刘海滨
;
沈大勇
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沈大勇
;
王炜
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王炜
.
中国专利
:CN105603384B
,2016-05-25
[8]
一种石墨烯薄膜连续规模化沉积设备
[P].
王宏飞
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王宏飞
;
戚顺昌
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戚顺昌
;
吴洪
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吴洪
.
中国专利
:CN205295454U
,2016-06-08
[9]
一种规模化制备石墨烯薄膜的夹具
[P].
李占成
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李占成
;
高翾
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高翾
;
张永娜
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张永娜
;
黄德萍
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黄德萍
;
姜浩
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姜浩
;
朱鹏
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朱鹏
;
邵丽
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邵丽
;
史浩飞
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史浩飞
.
中国专利
:CN204324893U
,2015-05-13
[10]
一种CVD生长大面积石墨烯的规模化方法
[P].
任文才
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任文才
;
马来鹏
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马来鹏
;
成会明
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成会明
.
中国专利
:CN105883779B
,2016-08-24
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