电子束曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810166464.4

申请日：

2003-10-30

公开(公告)号：

CN101414128B

公开(公告)日：

2009-04-22

发明(设计)人：

马尔科·扬-哈科·威兰波特·扬·卡姆弗彼科亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩彼得·克瑞特

申请人：

申请人地址：

荷兰代尔夫特

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01J37317

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

赵科

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-04-22	公开	公开
2019-06-21	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20190531 变更事项:专利权人变更前权利人:迈普尔平版印刷IP有限公司变更后权利人:ASML荷兰有限公司变更事项:地址变更前权利人:荷兰代尔夫特变更后权利人:荷兰维德霍温
2012-04-04	授权	授权

共 50 条

[1]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414124A ,2009-04-22

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电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414125A ,2009-04-22

[3]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN100437882C ,2005-12-14

[4]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬-哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414126B ,2009-04-22

[5]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬-哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414534B ,2009-04-22

[6]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬-哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414536B ,2009-04-22

[7]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414127A ,2009-04-22

[8]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414535A ,2009-04-22

[9]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414129A ,2009-04-22

[10]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414533A ,2009-04-22

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