一种高精度半球研磨装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410174882.3
申请日
2014-04-28
公开(公告)号
CN103934745A
公开(公告)日
2014-07-23
发明(设计)人
曹清 王晓瑜 李建春 杨通 翟秀果 常亚辉
申请人
申请人地址
100854 北京市海淀区142信箱403分箱
IPC主分类号
B24B37025
IPC分类号
B24B4104 B24B4712
代理机构
中国航天科技专利中心 11009
代理人
安丽
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
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