光记录介质和氮杂卟啉化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410090365.4

申请日：

2000-12-26

公开(公告)号：

CN1641768A

公开(公告)日：

2005-07-20

发明(设计)人：

小木曾章井上忍西本泰三塚原宇三泽伝美小池正士三原纪彦村山俊介奈良亮介

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B724

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

郭广迅;赵苏林

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-09-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-07-20	公开	公开
2007-09-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

光记录介质和氮杂卟啉化合物 [P].

小木曾章 ;

井上忍 ;

西本泰三 ;

塚原宇 ;

三泽伝美 ;

小池正士 ;

三原纪彦 ;

村山俊介 ;

奈良亮介 .

中国专利 :CN1434771A ,2003-08-06

[2]

光记录介质和类卟吩化合物 [P].

小木曾章 ;

井上忍 ;

塚原宇 ;

西本泰三 ;

三泽伝美 ;

小池正士 .

中国专利 :CN1197067C ,2002-03-06

[3]

光记录介质以及用于该光记录介质的化合物 [P].

盐崎裕由 ;

宫里将敬 ;

石田努 ;

小木曾章 ;

上野惠司 ;

臼井英夫 .

中国专利 :CN1867980A ,2006-11-22

[4]

四氮杂卟啉化合物 [P].

真锅阳介 ;

高石悠 ;

大家健一郎 ;

中山智博 .

中国专利 :CN111511843B ,2020-08-07

[5]

苯并双唑基化合物,光记录介质用化合物 [P].

小木曾章 ;

井上忍 ;

塚原宇 ;

西本泰三 ;

三泽伝美 .

中国专利 :CN1224524C ,2003-03-26

[6]

配位化合物以及含有其的光记录介质 [P].

泽田贵弘 ;

折见崇行 ;

冲村尚志 ;

宫崎常昭 ;

森山聪 .

中国专利 :CN103003243B ,2013-03-27

[7]

光记录介质、可视信息记录方法以及色素化合物的利用方法 [P].

濑户信夫 ;

柴田路宏 .

中国专利 :CN101421115A ,2009-04-29

[8]

新型氧杂菁染料化合物和光学信息记录介质 [P].

御子柴尚 ;

元木益司 ;

柴田路宏 ;

新居一巳 ;

田中长彦 ;

塚濑正昭 .

中国专利 :CN1972810A ,2007-05-30

[9]

光记录材料、光记录介质以及光记录介质的记录和复制方法 [P].

八代彻 ;

近江文也 ;

水上智 ;

中村有希 ;

林昌弘 ;

松本一平 .

中国专利 :CN101616808A ,2009-12-30

[10]

光记录材料和光记录介质 [P].

新海正博 ;

门田敦志 ;

井上素宏 .

中国专利 :CN101267951A ,2008-09-17

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