处理基片的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210524045.X

申请日：

2012-12-07

公开(公告)号：

CN103151285B

公开(公告)日：

2013-06-12

发明(设计)人：

李晓山高镛璿金庆燮金光秀金石训李根泽田溶明赵庸真

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

刘灿强;尹淑梅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-12	公开	公开
2017-08-08	授权	授权
2014-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591361240 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:201210524045X 申请日:20121207

共 50 条

[1]

处理基片的装置和方法 [P].

李晓山 ;

高镛璿 ;

金庆燮 ;

金光秀 ;

金石训 ;

李根泽 ;

田溶明 ;

赵庸真 .

中国专利 :CN107170700B ,2017-09-15

[2]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

梅崎翔太 ;

林田贵大 ;

中岛干雄 ;

安永尚史 .

日本专利 :CN118366888A ,2024-07-19

[3]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

福井祥吾 .

日本专利 :CN118633142A ,2024-09-10

[4]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

御所真高 ;

山本周 ;

浦智仁 ;

冈村聪 .

中国专利 :CN114141655A ,2022-03-04

[5]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

五师源太郎 ;

江头佳祐 ;

束野宪人 ;

丸本洋 .

中国专利 :CN110462792A ,2019-11-15

[6]

基片处理装置的清洗方法和基片处理系统 [P].

福井祥吾 ;

黄柏翰 .

日本专利 :CN112490143B ,2025-08-29

[7]

基片处理装置的清洗方法和基片处理系统 [P].

福井祥吾 ;

黄柏翰 .

中国专利 :CN112490143A ,2021-03-12

[8]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

五师源太郎 .

日本专利 :CN118231286A ,2024-06-21

[9]

基片处理装置、基片处理方法和基片 [P].

小原隆宪 ;

毛利信彦 .

日本专利 :CN118016559A ,2024-05-10

[10]

基片处理装置和方法 [P].

金仁俊 ;

赵重根 ;

崔章燮 ;

崔勇男 ;

裴正龙 .

中国专利 :CN1697141A ,2005-11-16

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