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一种立体垂直公墓
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201620795597.8
申请日：
2016-07-26
公开(公告)号：
CN205840486U
公开(公告)日：
2016-12-28
发明(设计)人：
杨森
申请人：
申请人地址：
100005 北京市东城区建国门内大街
IPC主分类号：
E04H1300
IPC分类号：
代理机构：
北京冠和权律师事务所 11399
代理人：
朱健;陈国军
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-12-28 | 授权 | 授权 |