化学机械抛光装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201511021045.8
申请日
2015-12-30
公开(公告)号
CN106625201A
公开(公告)日
2017-05-10
发明(设计)人
金钟千 任桦爀 金旻成 赵玟技
申请人
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
B24B3704
IPC分类号
B24B3734 B24B37005
代理机构
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327
代理人
姜虎;陈英俊
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
化学机械抛光装置 [P]. 
金钟千 ;
赵玟技 .
中国专利 :CN205380555U ,2016-07-13
[2]
化学机械抛光装置 [P]. 
金钟千 ;
金旻成 ;
赵玟技 .
中国专利 :CN106826533B ,2017-06-13
[3]
化学机械抛光装置 [P]. 
金旻成 ;
任桦爀 ;
董慜摄 .
中国专利 :CN205009026U ,2016-02-03
[4]
化学机械抛光装置 [P]. 
金旻成 ;
任桦爀 .
中国专利 :CN205166654U ,2016-04-20
[5]
化学机械抛光装置 [P]. 
吴政勋 ;
唐建设 ;
S·M·苏尼卡 ;
B·J·布朗 ;
A·J·纳耿加斯特 ;
D·R·威蒂 ;
R·德赛 ;
沈施浩 ;
吴昊晟 ;
Y·胡 .
美国专利 :CN221290866U ,2024-07-09
[6]
化学机械抛光装置 [P]. 
金旻成 ;
任桦爀 ;
董慜摄 .
中国专利 :CN205465666U ,2016-08-17
[7]
化学机械抛光装置 [P]. 
N·A·威斯韦尔 ;
S·布尔曼德 ;
D·J·本韦格努 ;
T·H·奥斯特海德 ;
B·A·斯韦德克 .
中国专利 :CN218254530U ,2023-01-10
[8]
化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P]. 
铃木三惠子 ;
土屋泰章 .
中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01
[9]
化学机械抛光装置及方法 [P]. 
金钟千 ;
金旻成 ;
任桦爀 ;
金志郁 .
中国专利 :CN106466807A ,2017-03-01
[10]
化学机械抛光设备 [P]. 
裴城焄 .
中国专利 :CN101238552A ,2008-08-06