一种可减少对成像设备电磁干扰的超声治疗系统

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专利类型
实用新型
申请号
CN200620148681.7
申请日
2006-10-16
公开(公告)号
CN200963445Y
公开(公告)日
2007-10-24
发明(设计)人
蒋光红 覃华昌 付英述 彭友湘
申请人
申请人地址
401121中国重庆市渝北区人和镇青松路1号
IPC主分类号
A61N700
IPC分类号
A61B1800 A61B1700 A61B5055
代理机构
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人
罗建民;张天舒
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
一种可减少对成像设备电磁干扰的超声治疗系统 [P]. 
蒋光红 ;
覃华昌 ;
付英述 ;
彭友湘 .
中国专利 :CN101164637A ,2008-04-23
[2]
一种超声治疗系统 [P]. 
康晓霞 ;
毛爱华 .
中国专利 :CN206896611U ,2018-01-19
[3]
一种超声治疗系统 [P]. 
谭普 .
中国专利 :CN206896612U ,2018-01-19
[4]
一种组合超声治疗头及组合超声治疗系统 [P]. 
文银刚 ;
邹颖 ;
吴丹丹 .
中国专利 :CN206120974U ,2017-04-26
[5]
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付兵 ;
彭友湘 ;
古月 ;
汪龙 ;
汪海 .
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[6]
一种超声治疗系统 [P]. 
谭普 .
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[7]
一种超声治疗系统 [P]. 
谭普 .
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[8]
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邹建志 ;
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[9]
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[10]
一种组合超声治疗头及组合超声治疗系统 [P]. 
文银刚 ;
邹颖 ;
吴丹丹 .
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