密封材料、含荧光体的密封材料的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510270212.6
申请日
2012-06-25
公开(公告)号
CN104993036A
公开(公告)日
2015-10-21
发明(设计)人
小西正宏
申请人
申请人地址
日本国大阪府
IPC主分类号
H01L3350
IPC分类号
H01L3356 H01L3358
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
齐秀凤
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
含荧光体密封材料的制造方法、含荧光体密封材料、发光装置的制造方法以及分配器 [P]. 
小西正宏 .
中国专利 :CN104662069A ,2015-05-27
[2]
密封材料及密封材料的制造方法 [P]. 
冈崎雅则 ;
大住直树 .
日本专利 :CN116209845B ,2025-12-16
[3]
表面经涂布的密封材料及密封材料的制造方法 [P]. 
田中宏幸 ;
野口刚 ;
东野克彦 .
中国专利 :CN100402895C ,2006-12-20
[4]
密封材料、组件和密封材料的用途 [P]. 
M·朗 .
中国专利 :CN113056366A ,2021-06-29
[5]
密封材料 [P]. 
大塚贤 ;
关胜也 ;
山元智弘 ;
糸山毅 .
中国专利 :CN104245877B ,2014-12-24
[6]
密封材料 [P]. 
史蒂芬·彼得·邦德 ;
理查德·罗杰斯 ;
史蒂芬·伍芬登 ;
尼尔·斯基珀 .
中国专利 :CN107980036A ,2018-05-01
[7]
密封材料 [P]. 
糸井克丰 ;
山中真 .
中国专利 :CN111247362B ,2020-06-05
[8]
密封材料 [P]. 
H·莱因菲尔德 ;
M·赖因塔勒 ;
R·米歇尔斯 ;
J·巴赫尔 ;
M·克里斯特 ;
A·鲍曼 .
中国专利 :CN101568753A ,2009-10-28
[9]
密封材料 [P]. 
高柳加世子 ;
青池周平 ;
井上达也 ;
藤井隆裕 ;
三津屋圭一 .
中国专利 :CN104342051B ,2015-02-11
[10]
密封材料 [P]. 
细井清 ;
古江友树 ;
石坂悠也 ;
大内渉 ;
山下琢治 ;
塚本骏 .
日本专利 :CN118369390A ,2024-07-19