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一种化学机械抛光液
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200910045269.0
申请日
:
2009-01-14
公开(公告)号
:
CN101775256A
公开(公告)日
:
2010-07-14
发明(设计)人
:
徐春
申请人
:
申请人地址
:
201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
IPC主分类号
:
C09G102
IPC分类号
:
C09K314
H01L21321
代理机构
:
上海翰鸿律师事务所 31246
代理人
:
李佳铭
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-10-03
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101454945232 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2009100452690 申请公布日:20100714
2010-07-14
公开
公开
共 50 条
[1]
一种用于铜制程的化学机械抛光液
[P].
徐春
论文数:
0
引用数:
0
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徐春
.
中国专利
:CN101457123A
,2009-06-17
[2]
一种化学机械抛光液
[P].
庞可亮
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庞可亮
;
王雨春
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王雨春
.
中国专利
:CN103666276A
,2014-03-26
[3]
一种用于铜制程的化学机械抛光液
[P].
徐春
论文数:
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徐春
.
中国专利
:CN101457122B
,2009-06-17
[4]
一种化学机械抛光液及其用途
[P].
刘天奇
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
刘天奇
;
荆建芬
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机构:
安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
荆建芬
;
周文婷
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
周文婷
;
王苗苗
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
王苗苗
;
罗威
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
罗威
;
蔡鑫元
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
蔡鑫元
;
马健
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
马健
;
宋凯
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
宋凯
;
李昀
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
李昀
;
王乐
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
王乐
.
中国专利
:CN120272120A
,2025-07-08
[5]
化学机械抛光液
[P].
杨云忠
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杨云忠
.
中国专利
:CN109929457A
,2019-06-25
[6]
化学机械抛光液
[P].
杨春晓
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杨春晓
;
俞昌
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俞昌
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肖正龙
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肖正龙
;
荆建芬
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荆建芬
.
中国专利
:CN1900146A
,2007-01-24
[7]
一种化学机械抛光液
[P].
殷天亮
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
殷天亮
;
郁夏盈
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
郁夏盈
;
林海峰
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机构:
安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
林海峰
.
中国专利
:CN118271971A
,2024-07-02
[8]
一种化学机械抛光液
[P].
陈国栋
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陈国栋
;
宋伟红
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宋伟红
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姚颖
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姚颖
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包建鑫
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包建鑫
;
王淑敏
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王淑敏
.
中国专利
:CN101451049A
,2009-06-10
[9]
一种化学机械抛光液
[P].
杨俊雅
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杨俊雅
;
荆建芬
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荆建芬
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马健
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马健
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姚颖
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姚颖
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周靖宇
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周靖宇
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黄悦锐
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黄悦锐
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倪宇飞
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倪宇飞
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李恒
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李恒
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蔡鑫元
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蔡鑫元
.
中国专利
:CN113122142A
,2021-07-16
[10]
一种化学机械抛光液
[P].
荆建芬
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荆建芬
;
杨春晓
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杨春晓
.
中国专利
:CN101457126A
,2009-06-17
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