CMP后清洗液组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610533445.5

申请日：

2016-07-07

公开(公告)号：

CN106191887B

公开(公告)日：

2016-12-07

发明(设计)人：

李锡浩宋定桓全成植赵诚一韩挪金炳卓林娥铉

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23G120

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

钟晶;金鲜英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101694610567 IPC(主分类):C23G 1/20 专利申请号:2016105334455 申请日:20160707
2017-06-30	授权	授权
2016-12-07	公开	公开

共 50 条

[1]

清洗液组合物 [P].

高中亚铃治 .

中国专利 :CN112639068A ,2021-04-09

[2]

化学机械研磨后清洗液组合物 [P].

曹宗煐 ;

金祐宙 ;

姜贤求 ;

朴健熙 ;

郑用昊 .

韩国专利 :CN115992031B ,2025-03-21

[3]

清洗液组合物 [P].

守田菊惠 ;

高中亚铃治 ;

大和田拓央 .

中国专利 :CN110140196A ,2019-08-16

[4]

清洗液组合物 [P].

守田菊惠 ;

堀家千代子 ;

深谷启介 ;

大和田拓央 .

中国专利 :CN105122429B ,2015-12-02

[5]

清洗液组合物 [P].

白永祥 ;

李晏成 ;

廖玉芬 .

中国专利 :CN102486619A ,2012-06-06

[6]

用于铜CMP后清洗磨料颗粒的清洗液及清洗方法 [P].

檀柏梅 ;

杨柳 ;

殷达 ;

何彦刚 ;

王如 ;

孙晓琴 ;

张师浩 .

中国专利 :CN110813891A ,2020-02-21

[7]

清洗液组成物 [P].

白永祥 ;

廖玉芬 ;

陈怡静 ;

李晏成 .

中国专利 :CN102443495A ,2012-05-09

[8]

一种蚀刻后清洗液 [P].

吴政 ;

叶瑞 ;

贺兆波 ;

王亮 ;

谢建 ;

陈小超 ;

罗海燕 ;

刘春丽 .

中国专利 :CN117903887A ,2024-04-19

[9]

李盈壕 ;

吕志鹏 .

中国专利 :CN1646732A ,2005-07-27

[10]

一种半导体钴制程CMP后清洗液、其制备方法与应用 [P].

吕晶 ;

侯军 ;

任浩楠 ;

王欣欣 .

中国专利 :CN119193245A ,2024-12-27

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