半导体制作工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200910161268.2
申请日
2009-07-28
公开(公告)号
CN101969041A
公开(公告)日
2011-02-09
发明(设计)人
方俊杰 陈柏荣 郭聪敏
申请人
申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
H01L2160 H01L21324
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
彭久云
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体制作工艺 [P]. 
童宇诚 ;
廖晋毅 .
中国专利 :CN104377135A ,2015-02-25
[2]
半导体制作工艺 [P]. 
张仲甫 ;
黄信川 ;
洪裕祥 ;
刘家荣 ;
周珮玉 ;
郑志祥 ;
周玲君 ;
王益昌 ;
洪庆文 ;
郭敏郎 ;
吴俊元 .
中国专利 :CN103077894A ,2013-05-01
[3]
半导体制作工艺 [P]. 
韩广涛 ;
陆阳 ;
任远程 ;
周逊伟 .
中国专利 :CN106356304A ,2017-01-25
[4]
半导体制作工艺 [P]. 
魏国智 ;
陈翁宜 ;
李世伟 .
中国专利 :CN108946656A ,2018-12-07
[5]
半导体制作工艺 [P]. 
梁丝萍 .
中国专利 :CN113889397A ,2022-01-04
[6]
半导体制作工艺 [P]. 
韩广涛 ;
陆阳 ;
任远程 ;
周逊伟 .
中国专利 :CN106653607A ,2017-05-10
[7]
半导体制作工艺 [P]. 
车行远 ;
姜宏奇 ;
姜文萍 ;
方彦程 .
中国专利 :CN111243956A ,2020-06-05
[8]
半导体制作工艺 [P]. 
林建良 ;
蔡世鸿 ;
林俊贤 ;
孙德霖 ;
王韶韦 ;
颜英伟 ;
王俞仁 .
中国专利 :CN103035517A ,2013-04-10
[9]
半导体制作工艺 [P]. 
戴炘 ;
廖玉梅 ;
刘韦廷 ;
彭文权 .
中国专利 :CN105097442A ,2015-11-25
[10]
半导体制作工艺方法 [P]. 
钟泽伟 ;
周宗辉 ;
赖郁元 .
中国专利 :CN105655296A ,2016-06-08