化学气相薄膜沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120346715.4

申请日：

2011-09-16

公开(公告)号：

CN202246856U

公开(公告)日：

2012-05-30

发明(设计)人：

李一成汪宇澄许国青户高良二

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路1号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

张静洁;徐雯琼

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20110916 授权公告日:20120530 终止日期:20200916
2017-09-01	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101758194830 IPC(主分类):C23C 16/455 专利号:ZL2011203467154 登记生效日:20170811 变更事项:专利权人变更前权利人:理想能源设备(上海)有限公司变更后权利人:理想耀锐(浙江)能源科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路1号变更后权利人:311100 浙江省杭州市余杭区文一西路1500号1幢411室
2012-05-30	授权	授权

共 50 条

[1]

薄膜沉积炉管及化学气相沉积设备 [P].

张弢 ;

朱广东 ;

邱家梁 ;

郭梦龙 ;

童洪波 .

中国专利 :CN222313290U ,2025-01-07

[2]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[3]

化学气相沉积设备 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202705462U ,2013-01-30

[4]

化学气相沉积设备 [P].

胡昌义 ;

雷春明 ;

毛勇 ;

郭锦新 ;

李靖华 ;

周世平 ;

徐云 ;

王云 ;

欧阳远良 .

中国专利 :CN2851277Y ,2006-12-27

[5]

化学气相沉积设备 [P].

杨贤烁 .

中国专利 :CN221275883U ,2024-07-05

[6]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223176201U ,2025-08-01

[7]

化学气相沉积设备 [P].

丁欣 .

中国专利 :CN209010598U ,2019-06-21

[8]

化学气相沉积设备 [P].

陈雄博 ;

罗光林 .

中国专利 :CN203049032U ,2013-07-10

[9]

化学气相沉积设备 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN203007407U ,2013-06-19

[10]

化学气相沉积设备 [P].

林曦销 .

中国专利 :CN222846822U ,2025-05-09

← 1 2 3 4 5 →