透明导电膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910038774.6

申请日：

2012-11-28

公开(公告)号：

CN109930109A

公开(公告)日：

2019-06-25

发明(设计)人：

拝师基希山本佑辅梨木智刚佐佐和明

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C23C1408

IPC分类号：

C23C1435 C23C1458 H01B1300 H01B514

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王利波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-29	授权	授权
2019-07-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20121128
2019-06-25	公开	公开

共 50 条

[1]

透明导电膜的制造方法 [P].

拝师基希 ;

山本佑辅 ;

梨木智刚 ;

佐佐和明 .

中国专利 :CN104081473A ,2014-10-01

[2]

透明导电膜的制造方法 [P].

上田拓明 .

中国专利 :CN105874545A ,2016-08-17

[3]

透明导电层叠层用膜、其制造方法、以及透明导电膜 [P].

森田亘 ;

原务 ;

武藤豪志 ;

近藤健 .

中国专利 :CN108349216A ,2018-07-31

[4]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

北野高广 .

中国专利 :CN101669177A ,2010-03-10

[5]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

中川原修 ;

瀨戸弘之 ;

岸本諭卓 .

中国专利 :CN101180687A ,2008-05-14

[6]

透明导电膜和透明导电膜的制造方法 [P].

森田阳明 .

中国专利 :CN107533882A ,2018-01-02

[7]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

深堀奏子 ;

岸本谕卓 .

中国专利 :CN101548343A ,2009-09-30

[8]

透明导电膜和透明导电膜的制造方法 [P].

片桐健介 ;

田尻新 ;

长谷明彦 .

中国专利 :CN105247626B ,2016-01-13

[9]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN104213085A ,2014-12-17

[10]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN102666909A ,2012-09-12

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