多重图形化的掩膜层及其形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210260386.0

申请日：

2012-07-20

公开(公告)号：

CN103578931A

公开(公告)日：

2014-02-12

发明(设计)人：

洪中山吴汉明

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21033

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101578334008 IPC(主分类):H01L 21/033 专利申请号:2012102603860 申请日:20120720
2017-05-31	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752377351 IPC(主分类):H01L 21/033 专利申请号:2012102603860 申请公布日:20140212
2014-02-12	公开	公开

共 50 条

[1]

自对准多重图形化的掩膜层及其形成方法 [P].

吴汉明 ;

洪中山 .

中国专利 :CN103515197A ,2014-01-15

[2]

多重图形化的掩膜层的形成方法、半导体结构 [P].

洪中山 ;

吴汉明 .

中国专利 :CN103578930B ,2014-02-12

[3]

改进多重图形化掩膜层的方法 [P].

鲍宇 .

中国专利 :CN105206512A ,2015-12-30

[4]

多重图形化掩膜的制备方法 [P].

鲍宇 ;

周海锋 .

中国专利 :CN106783557B ,2017-05-31

[5]

一种多重图形化掩膜层的形成方法 [P].

鲍宇 ;

李润领 ;

方精训 .

中国专利 :CN105304474A ,2016-02-03

[6]

图形化的掩膜层及其形成方法 [P].

郑二虎 .

中国专利 :CN109216164B ,2019-01-15

[7]

多重图形的形成方法 [P].

洪中山 .

中国专利 :CN103928303A ,2014-07-16

[8]

多重图形化方法 [P].

鲍宇 .

中国专利 :CN106057657A ,2016-10-26

[9]

自对准多重图形掩膜的形成方法 [P].

洪中山 .

中国专利 :CN105336571A ,2016-02-17

[10]

一种多重图形化掩膜层的结构及制作方法 [P].

鲍宇 .

中国专利 :CN105244259A ,2016-01-13

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