一种二恶烷分子印迹材料的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011426434.X
申请日
2020-12-09
公开(公告)号
CN112708082A
公开(公告)日
2021-04-27
发明(设计)人
谷雪贤 黄勇 柯金妥
申请人
申请人地址
528400 广东省中山市火炬开发区中山港大道侧
IPC主分类号
C08F29200
IPC分类号
C08F22056 C08F22214 B01J2026 B01J2030
代理机构
中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286
代理人
邹建平
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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