显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480071014.0

申请日：

2014-12-26

公开(公告)号：

CN105849313B

公开(公告)日：

2016-08-10

发明(设计)人：

郑铉珠金庆保宋渊均李正熙柳润夏

申请人：

申请人地址：

韩国庆尚北道

IPC主分类号：

C23C2246

IPC分类号：

C23C2257 C23C2800

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

王莹;王朋飞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-03-09	授权	授权
2016-09-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101677911230 IPC(主分类):C23C 22/46 专利申请号:2014800710140 申请日:20141226
2016-08-10	公开	公开

共 50 条

[1]

显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法 [P].

郑铉珠 ;

柳润夏 ;

李正熙 ;

林玉姬 ;

赵载东 .

中国专利 :CN105849315A ,2016-08-10

[2]

显色处理的基材及用于其的基材显色处理方法 [P].

郑铉珠 ;

宋渊均 ;

徐旼弘 ;

安钢焕 ;

全英遇 .

中国专利 :CN105849316A ,2016-08-10

[3]

经过显色处理的基材及用于其的基材的显色处理方法 [P].

郑铉珠 ;

全英遇 ;

李钟锡 ;

徐旼弘 ;

安钢焕 .

中国专利 :CN105849314B ,2016-08-10

[4]

表面处理的基材及用于其的基材表面处理方法 [P].

郑铉珠 ;

金庆保 ;

朴河善 ;

金武镇 ;

金庆式 ;

李睍英 .

中国专利 :CN105874100B ,2016-08-17

[5]

处理基材的含水试剂、基材处理方法和已处理的基材 [P].

田中和也 ;

清水秋雄 ;

森田良治 ;

土田真也 ;

小林诚幸 ;

山南隆德 .

中国专利 :CN100350074C ,2005-05-11

[6]

基材的处理方法及基材的制造方法 [P].

奥村雄三 ;

照井贵阳 .

日本专利 :CN119278503A ,2025-01-07

[7]

用于处理基材的体系和方法 [P].

K·M·艾伦 ;

R·D·哈里斯 ;

J·J·马丁 ;

S·J·莱蒙 ;

S·贝泽尔 ;

M·W·麦克米伦 .

中国专利 :CN114555863A ,2022-05-27

[8]

基材的处理方法 [P].

罗伊·V·利夫伦兹 ;

约翰·博斯特 .

中国专利 :CN1318015A ,2001-10-17

[9]

处理基材的方法 [P].

K·西门斯迈尔 ;

J·米勒 ;

S·屈恩 ;

K-H·魏格特 ;

O·埃利萨尔德 .

中国专利 :CN101529011B ,2009-09-09

[10]

铝类基材的表面处理方法和经表面处理的基材 [P].

印部俊雄 ;

松井德纯 ;

安田光宏 ;

山添胜芳 .

中国专利 :CN1572913A ,2005-02-02

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