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烷基取代-S,S-二氧-二苯并噻吩单体及其制备方法与聚合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200910193934.0
申请日：
2009-11-13
公开(公告)号：
CN101712674A
公开(公告)日：
2010-05-26
发明(设计)人：
杨伟 刘杰 应磊 彭俊彪 曹镛
申请人：
申请人地址：
510640 广东省广州市天河区五山路381号
IPC主分类号：
C07D33376
IPC分类号：
C08G6112 C09K1106 H01L5100 H01L5146 H01L5130
代理机构：
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人：
何淑珍
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2015-03-11 授权 授权
2010-08-04 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004470665 IPC(主分类):C07D 333/76 专利申请号:2009101939340 申请日:20091113
2010-05-26 公开 公开
共 50 条
[1]
双S,S-二氧-二苯并噻吩并五元环单体及其制备方法与聚合物 [P]. 
杨伟 ;
杨勇 ;
张斌 ;
吴宏滨 ;
曹镛 .
中国专利 :CN105001233A ,2015-10-28
[2]
含(烷基取代-)S,S-二氧-二苯并噻吩单元的电磷光聚合物及其应用 [P]. 
杨伟 ;
何锐峰 ;
张斌 ;
郭婷 ;
刘杰 ;
余磊 ;
曹镛 .
中国专利 :CN102417587A ,2012-04-18
[3]
含极性取代基团S,S-二氧-二苯并噻吩单体及其水/醇溶性聚合物与应用 [P]. 
杨伟 ;
应磊 ;
肖慧萍 ;
余磊 ;
何瑞锋 ;
曹镛 .
中国专利 :CN103224486A ,2013-07-31
[4]
含S,S-二氧-二苯并噻吩单元的发光聚合物及其应用 [P]. 
杨伟 ;
郭婷 ;
肖慧萍 ;
张斌 ;
余磊 ;
梁立 ;
曹镛 .
中国专利 :CN102850528A ,2013-01-02
[5]
含S,S-二氧-二苯并噻吩衍生物单元的聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
彭沣 ;
钟知鸣 ;
黄飞 ;
曹镛 .
中国专利 :CN110776622A ,2020-02-11
[6]
一类基于S,S-二氧-二苯并噻吩鎓盐的聚合物前躯体单体、聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
杨伟 ;
陈桂庭 ;
徐进 ;
张斌 ;
吴宏滨 ;
曹镛 .
中国专利 :CN105384767B ,2016-03-09
[7]
双（S,S-二氧-二苯并噻吩）并五元环化合物及其制备方法与应用 [P]. 
杨伟 ;
杨勇 ;
胡黎文 ;
徐进 ;
张斌 ;
吴宏滨 ;
曹镛 .
中国专利 :CN105017302A ,2015-11-04
[8]
含S,S-二氧-二苯并噻吩单元的电子给体聚合物及其应用 [P]. 
杨伟 ;
何锐锋 ;
徐进 ;
张斌 ;
吴宏滨 ;
曹镛 .
中国专利 :CN104004165A ,2014-08-27
[9]
含S,S-二氧-二苯并噻吩衍生物单元的D-π-A聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
彭沣 ;
钱宇 ;
钟知鸣 ;
黄飞 ;
曹镛 .
中国专利 :CN110776620A ,2020-02-11
[10]
二烷基取代萘并硫氧芴单体及其制备方法与含二烷基取代萘并硫氧芴单元的聚合物及其应用 [P]. 
郭婷 ;
傅登豪 ;
应磊 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106588869A ,2017-04-26
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