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化合物、液晶组合物、高分子材料和膜
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380012811.7
申请日
:
2013-03-01
公开(公告)号
:
CN104159996A
公开(公告)日
:
2014-11-19
发明(设计)人
:
松山拓史
加藤峻也
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
C09K1956
IPC分类号
:
C07C6976
C07C69773
C07C23520
C07C23548
C07C23550
C09K1938
C09K1954
G02F113
G02F11337
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
丁香兰;庞东成
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-01-20
授权
授权
2014-11-19
公开
公开
2014-12-17
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591906226 IPC(主分类):C09K 19/56 专利申请号:2013800128117 申请日:20130301
共 50 条
[1]
化合物、液晶组合物、高分子材料和膜
[P].
加藤峻也
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0
加藤峻也
;
吉川将
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吉川将
.
中国专利
:CN104136577A
,2014-11-05
[2]
聚合性液晶化合物、聚合性组合物、高分子材料和膜
[P].
上村稔
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上村稔
;
石绵靖宏
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石绵靖宏
;
吉川将
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吉川将
;
田口贵雄
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田口贵雄
;
田坂知树
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田坂知树
.
中国专利
:CN103781755A
,2014-05-07
[3]
高分子材料组合物
[P].
根岸由典
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根岸由典
;
绫部敬士
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绫部敬士
;
铃木正人
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铃木正人
;
飞田悦男
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飞田悦男
.
中国专利
:CN101410446A
,2009-04-15
[4]
交联性高分子组合物、交联高分子材料、绝缘电线和线束
[P].
佐藤正史
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
佐藤正史
;
细川武广
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
细川武广
;
岛田达也
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
岛田达也
;
坂元克司
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
坂元克司
;
沟口诚
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
沟口诚
.
日本专利
:CN120641506A
,2025-09-12
[5]
高分子组合物与高分子材料
[P].
施亭宇
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施亭宇
;
邓泽民
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邓泽民
;
王嘉淳
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王嘉淳
;
陈毓华
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陈毓华
;
陈瑞祥
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陈瑞祥
;
杨梅如
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杨梅如
;
江淑芳
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江淑芳
;
陈燕春
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陈燕春
;
张家霓
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张家霓
.
中国专利
:CN103893813B
,2014-07-02
[6]
高分子材料和高分子发光元件
[P].
中谷智也
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中谷智也
;
山田武
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山田武
.
中国专利
:CN101203539B
,2008-06-18
[7]
化合物、雾度降低剂、液晶组合物、聚合物材料和膜
[P].
水村理俊
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水村理俊
;
加藤峻也
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加藤峻也
;
上村稔
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上村稔
;
石绵靖宏
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石绵靖宏
;
吉川将
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吉川将
;
松山拓史
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松山拓史
.
中国专利
:CN103702971B
,2014-04-02
[8]
交联性高分子组合物、交联高分子材料、绝缘电线和线束
[P].
佐藤正史
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
佐藤正史
;
细川武广
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
细川武广
;
岛田达也
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
岛田达也
;
坂元克司
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
坂元克司
;
沟口诚
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机构:
株式会社自动网络技术研究所
株式会社自动网络技术研究所
沟口诚
.
日本专利
:CN120693375A
,2025-09-23
[9]
高分子偶氮化合物
[P].
真壁由惠
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真壁由惠
.
中国专利
:CN101134811A
,2008-03-05
[10]
基于碳水化合物的高分子材料
[P].
布拉德福·拉普雷
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机构:
白鸥逻辑股份有限公司
白鸥逻辑股份有限公司
布拉德福·拉普雷
;
权文吉
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机构:
白鸥逻辑股份有限公司
白鸥逻辑股份有限公司
权文吉
;
唐纳德·艾伦
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机构:
白鸥逻辑股份有限公司
白鸥逻辑股份有限公司
唐纳德·艾伦
.
美国专利
:CN110325576B
,2024-01-23
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