电磁波吸收比调整方法、装置和终端

被引：0

申请号：

CN202111683226.2

申请日：

2021-12-31

公开(公告)号：

CN114513221A

公开(公告)日：

2022-05-17

发明(设计)人：

冯学斌

申请人：

申请人地址：

523863 广东省东莞市长安镇维沃路1号

IPC主分类号：

H04B140

IPC分类号：

H04B1715 H04B1719 H04B1729

代理机构：

北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人：

乔珊珊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-17	公开	公开
2022-06-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H04B 1/40 申请日:20211231

共 50 条

[1]

电磁波吸收比调整方法、装置和终端 [P].

冯学斌 .

中国专利 :CN114513221B ,2024-04-19

[2]

电磁波能量吸收比的处理方法及处理装置 [P].

谭明磊 .

中国专利 :CN106131944A ,2016-11-16

[3]

终端、射频前端装置及其电磁波吸收比值调整方法和系统 [P].

李伟 .

中国专利 :CN107994956A ,2018-05-04

[4]

电磁波吸收比的控制方法及装置 [P].

秦源 ;

付堉皓 .

中国专利 :CN115441890A ,2022-12-06

[5]

电磁波吸收膜、电磁波吸收片 [P].

松下大雅 .

日本专利 :CN113519092B ,2024-06-04

[6]

电磁波吸收膜、电磁波吸收片 [P].

松下大雅 .

中国专利 :CN113519092A ,2021-10-19

[7]

电磁波吸收材料以及电磁波吸收颗粒 [P].

小川茂 ;

铃木隆一 .

中国专利 :CN1953650A ,2007-04-25

[8]

电磁波吸收颗粒、电磁波吸收颗粒分散液、电磁波吸收颗粒的制造方法 [P].

冈田美香 ;

小野胜史 ;

吉尾里司 ;

足立健治 ;

町田佳辅 .

中国专利 :CN110997572A ,2020-04-10

[9]

电磁波吸收粒子、电磁波吸收粒子分散液、电磁波吸收粒子的制造方法 [P].

足立健治 ;

吉尾里司 ;

若林正男 .

中国专利 :CN115003631A ,2022-09-02

[10]

电磁波吸收粒子、电磁波吸收粒子分散液、电磁波吸收粒子的制造方法 [P].

足立健治 ;

吉尾里司 ;

若林正男 .

日本专利 :CN115003631B ,2024-06-14

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