一种针对二次曲面反射镜的抛光制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN202111465697.6
申请日
2021-12-03
公开(公告)号
CN114102340A
公开(公告)日
2022-03-01
发明(设计)人
孙洁斐 高凡 李忠 熊涛 伊博 李通 罗耀明
申请人
申请人地址
430223 湖北省武汉市江夏区庙山开发区明泽街9号
IPC主分类号
B24B1300
IPC分类号
B24B100
代理机构
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102
代理人
许美红;刘洋
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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