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用于等离子体处理设备的下电极组件和等离子体处理设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911274926.9
申请日
:
2019-12-12
公开(公告)号
:
CN112992634A
公开(公告)日
:
2021-06-18
发明(设计)人
:
吴磊
叶如彬
陈龙宝
李振中
徐晓磊
朱文龙
申请人
:
申请人地址
:
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人
:
张妍;周乃鑫
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-06-18
公开
公开
2021-07-06
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20191212
共 50 条
[1]
用于等离子体处理设备的下电极组件和等离子体处理设备
[P].
吴磊
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吴磊
;
魏强
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魏强
;
叶如彬
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叶如彬
;
洪韬
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洪韬
;
张一川
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张一川
;
廉晓芳
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廉晓芳
;
黄允文
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黄允文
.
中国专利
:CN112863983A
,2021-05-28
[2]
等离子体处理设备及用于等离子体处理设备的下电极组件
[P].
范光伟
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范光伟
;
吴狄
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吴狄
;
徐朝阳
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徐朝阳
.
中国专利
:CN112928007A
,2021-06-08
[3]
用于等离子体处理设备的射频电极组件和等离子体处理设备
[P].
苏宜龙
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苏宜龙
;
左涛涛
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左涛涛
;
陈妙娟
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陈妙娟
.
中国专利
:CN112185787A
,2021-01-05
[4]
等离子体处理设备和用于等离子体处理设备的电极构件
[P].
岩井哲博
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岩井哲博
.
中国专利
:CN101853769B
,2010-10-06
[5]
下电极组件及等离子体处理设备
[P].
田宁
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
田宁
;
叶如彬
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
叶如彬
.
中国专利
:CN120149245A
,2025-06-13
[6]
下电极组件及等离子体处理设备
[P].
田宁
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
田宁
;
叶如彬
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
叶如彬
.
中国专利
:CN119170554A
,2024-12-20
[7]
下电极组件及等离子体处理设备
[P].
田宁
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
田宁
;
叶如彬
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
叶如彬
.
中国专利
:CN119170554B
,2025-07-08
[8]
下电极组件及等离子体处理设备
[P].
梁玲
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梁玲
;
谢海波
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谢海波
;
张志雄
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张志雄
;
李刚
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李刚
;
张栋
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张栋
.
中国专利
:CN213936112U
,2021-08-10
[9]
等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备
[P].
林垠赞
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
林垠赞
;
柳海永
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
柳海永
;
李殷守
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
李殷守
;
朴瑄昱
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
朴瑄昱
;
张容文
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
张容文
;
朴炫九
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
朴炫九
;
李在龙
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
李在龙
.
韩国专利
:CN222705440U
,2025-04-01
[10]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
菅井秀郎
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菅井秀郎
;
井出哲也
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井出哲也
;
佐佐木厚
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佐佐木厚
;
东和文
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东和文
;
中田行彦
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0
中田行彦
.
中国专利
:CN1670912A
,2005-09-21
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