气体制造设备、气体供给容器及电子器件制造用气体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580007844.8

申请日：

2005-02-16

公开(公告)号：

CN1930415A

公开(公告)日：

2007-03-14

发明(设计)人：

大见忠弘白井泰雪加藤丈佳田中公章中村昌洋田中克知

申请人：

申请人地址：

日本宫城县

IPC主分类号：

F17C110

IPC分类号：

C23C410 C23C816 C23C818

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

孙秀武;吴娟

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-10-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-05-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-03-14	公开	公开

共 50 条

[1]

气体制造设备 [P].

朱君武 .

中国专利 :CN307004718S ,2021-12-14

[2]

气体制造系统和气体制造方法 [P].

明田川恭平 ;

平敷勇 ;

野崎智洋 ;

坂田谦太 .

日本专利 :CN113748082B ,2024-06-04

[3]

气体制造系统和气体制造方法 [P].

明田川恭平 ;

平敷勇 ;

野崎智洋 ;

坂田谦太 .

中国专利 :CN113748082A ,2021-12-03

[4]

半导体制造设备用的气体供给装置 [P].

西野功二 ;

土肥亮介 ;

永濑正明 ;

平田薰 ;

杉田胜幸 ;

池田信一 .

中国专利 :CN101809712A ,2010-08-18

[5]

气体制造机 [P].

杨智凯 ;

刘宥甫 ;

邓育坤 .

中国专利 :CN307397429S ,2022-06-10

[6]

气体阻隔性膜的制造方法、气体阻隔性膜、电子器件的制造方法及电子器件 [P].

奥山真人 .

中国专利 :CN106457785A ,2017-02-22

[7]

气体激光装置以及电子器件的制造方法 [P].

山之内庸一 ;

梅田博 ;

植山健史 .

日本专利 :CN118648203A ,2024-09-13

[8]

气体激光装置以及电子器件的制造方法 [P].

佐佐木阳一 ;

梅田博 ;

J·P·赛塞尔 ;

M·V·达德尔森 .

日本专利 :CN118235302A ,2024-06-21

[9]

气体激光装置和电子器件的制造方法 [P].

大贺仁 .

日本专利 :CN120511541A ,2025-08-19

[10]

气体激光装置以及电子器件的制造方法 [P].

永井一喜 ;

植山健史 .

日本专利 :CN120642154A ,2025-09-12

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