一种氧阴极制碱离子膜电解槽装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010622807.0
申请日
2010-12-29
公开(公告)号
CN102031534A
公开(公告)日
2011-04-27
发明(设计)人
张良虎 王峰 张兀 王贺生 闫冬升 郭利平 宋明周
申请人
申请人地址
100176 北京市经济技术开发区兴业街5号
IPC主分类号
C25B134
IPC分类号
C25B146 C25B906
代理机构
北京五月天专利商标代理有限公司 11294
代理人
何宜章;张瑞丰
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种氧阴极制碱离子膜电解槽装置 [P]. 
张良虎 ;
王峰 ;
张兀 ;
王贺生 ;
闫冬升 ;
郭利平 ;
宋明周 .
中国专利 :CN201942755U ,2011-08-24
[2]
氧阴极电解槽及制碱装置 [P]. 
张良虎 ;
李海要 ;
王建军 ;
赵印杰 ;
张π ;
覃事永 ;
宋明周 .
中国专利 :CN202849552U ,2013-04-03
[3]
氧阴极离子膜电解槽及其安装密封方法 [P]. 
王峰 ;
张杰 ;
刘秀明 ;
李志林 ;
刘景军 ;
吉静 ;
覃事永 ;
王建军 .
中国专利 :CN102839385A ,2012-12-26
[4]
氧阴极电解槽和制碱装置及方法 [P]. 
张良虎 ;
李海要 ;
王建军 ;
赵印杰 ;
张兀 ;
覃事永 ;
宋明周 .
中国专利 :CN102925917A ,2013-02-13
[5]
一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽 [P]. 
郭立德 ;
刘秀明 ;
乔霄锋 ;
许东全 ;
张丽蕊 ;
杨航 ;
宗子超 .
中国专利 :CN111304682A ,2020-06-19
[6]
一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽 [P]. 
郭立德 ;
刘秀明 ;
乔霄锋 ;
许东全 ;
张丽蕊 ;
杨航 ;
宗子超 .
中国专利 :CN111304682B ,2024-11-22
[7]
一种氯碱工业用氧阴极离子膜电解槽 [P]. 
郭立德 ;
刘秀明 ;
康建忠 ;
乔霄锋 ;
许东全 ;
张丽蕊 ;
杨航 ;
宗子超 .
中国专利 :CN209368364U ,2019-09-10
[8]
一种膜极距离子膜电解槽阴极及电解槽 [P]. 
刘秀明 ;
张丽蕊 ;
康建忠 ;
范峰 ;
葛丹丹 ;
刘蕾 .
中国专利 :CN209098827U ,2019-07-12
[9]
一种膜极距离子膜电解槽阴极及电解槽 [P]. 
刘秀明 ;
张丽蕊 ;
康建忠 ;
乔霄峰 ;
宗子超 ;
程琨 .
中国专利 :CN111155144A ,2020-05-15
[10]
一种膜极距离子膜电解槽阴极及电解槽 [P]. 
刘秀明 ;
张丽蕊 ;
康建忠 ;
乔霄峰 ;
宗子超 ;
程琨 .
中国专利 :CN111155144B ,2024-11-19