杂环化合物及其用途

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201380017551.2
申请日
2013-04-04
公开(公告)号
CN104395305A
公开(公告)日
2015-03-04
发明(设计)人
M.H.T.毕 T.D.库兴 F.冈萨雷斯洛佩斯德图里索 X.郝 B.卢卡斯
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
C07D40114
IPC分类号
A61K31505 C07D40112
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
孔青;彭昶
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
杂环化合物及其用途 [P]. 
T·D·库兴 ;
P·J·德兰斯菲尔德 ;
F·冈萨雷斯洛佩斯德图里索 ;
M·G·约翰森 ;
T·J·科恩 ;
V·帕塔罗蓬 ;
J·L·西马 .
中国专利 :CN102625799A ,2012-08-01
[2]
杂环化合物及其用途 [P]. 
T.D.库兴 ;
J.A.杜克特 ;
X.何 ;
J.W.罗曼 ;
Y.辛 .
中国专利 :CN103221403A ,2013-07-24
[3]
杂环化合物及其用途 [P]. 
石全 ;
夏克山 ;
吴建煌 ;
周铭城 ;
宋政勳 ;
王昀 .
中国专利 :CN110381949A ,2019-10-25
[4]
杂环化合物 [P]. 
永宫裕之 ;
吉田雅都 ;
濑户雅树 ;
圆井省吾 ;
小田恒夫 ;
石地雄二 ;
铃木英夫 ;
楠本友和 ;
余郷能纪 ;
C·Y·任 ;
C·尹 ;
G·N·李 ;
H·B·姜 ;
K·O·金 ;
H·S·全 .
中国专利 :CN104271574A ,2015-01-07
[5]
杂环化合物 [P]. 
原田博规 ;
服部和之 ;
藤田和也 ;
森田真正 ;
今田直 ;
阿部义人 ;
井谷弘道 ;
宝方达昭 ;
津津美秀雄 .
中国专利 :CN101415702B ,2009-04-22
[6]
杂环化合物及其应用 [P]. 
Y·陈 ;
T·D·库兴 ;
J·A·杜克特 ;
F·冈萨莱斯洛佩斯德图里索 ;
X·郝 ;
X·何 ;
B·卢卡斯 ;
L·R·麦吉 ;
A·赖歇尔特 ;
R·M·勒扎萨 ;
J·塞加尼什 ;
Y·辛 ;
D·张 .
中国专利 :CN101715453A ,2010-05-26
[7]
杂环化合物及其用途 [P]. 
米国瑞 ;
张颜 ;
徐艳霞 ;
王松雨 ;
耿佳 ;
张安琪 ;
赵方亮 ;
杨梦宇 .
中国专利 :CN115734966B ,2025-07-18
[8]
杂环化合物及其用途 [P]. 
李连生 ;
任平达 .
美国专利 :CN120981456A ,2025-11-18
[9]
杂环化合物及其用途 [P]. 
服部靖志 ;
宫野鼻悠平 ;
梶田雄一 ;
小池竜树 ;
帆足保孝 ;
德永礼仁 ;
亚历山大·马丁·帕里切克 ;
小田恒夫 ;
宫崎徹 ;
伊藤吉辉 ;
竹内公平 ;
今村圭佑 ;
杉本贵裕 .
日本专利 :CN113395993B ,2024-02-20
[10]
杂环化合物及其用途 [P]. 
维尔·陶科 .
:CN117412975A ,2024-01-16