一种微叠堆栈结构全息镭射的制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810770700.7
申请日
2018-07-13
公开(公告)号
CN109130661A
公开(公告)日
2019-01-04
发明(设计)人
朱立纲 陈洋 刘伟
申请人
申请人地址
201102 上海市闵行区顾戴路1618号
IPC主分类号
B44C110
IPC分类号
B44C114
代理机构
北京维正专利代理有限公司 11508
代理人
洪敏;谢绪宁
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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