半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710337969.1
申请日
2017-05-15
公开(公告)号
CN107464815A
公开(公告)日
2017-12-12
发明(设计)人
三原龙善
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2711568
IPC分类号
H01L2711573 H01L29423 H01L2966 H01L2978 H01L2128
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
李辉;张昊
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
林伦弘 .
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[2]
制造半导体器件的方法 [P]. 
满生彰 .
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
石桥雅义 ;
加藤美登里 .
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[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
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[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
秋元健吾 ;
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
佐伯贵范 .
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