全息记录介质、全息高分子材料及其制备方法、显示设备

被引：0

申请号：

CN202110563230.9

申请日：

2021-05-24

公开(公告)号：

CN115386046A

公开(公告)日：

2022-11-25

发明(设计)人：

彭海炎徐绍钦解孝林周兴平姚铭邱博通

申请人：

申请人地址：

518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼

IPC主分类号：

C08F28300

IPC分类号：

C08F22610 C08F22030 C08F22222 C08F22054 C08F22606 C08F248 C08G1842 C08G1832 C08G1850 G03H102

代理机构：

北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人：

落爱青

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

聚合物型全息记录材料、全息高分子材料及其制备方法 [P].

钟世龙 ;

梁伟恩 ;

马泽通 ;

陈旭东 .

中国专利 :CN117417509A ,2024-01-19

[2]

侧链型全息记录材料、全息高分子材料以及制备方法 [P].

陈旭东 ;

梁伟恩 ;

钟世龙 ;

马泽通 .

中国专利 :CN117417510A ,2024-01-19

[3]

激光全息用高分子材料及其制备方法 [P].

王清 ;

崔红宇 .

中国专利 :CN101281257A ,2008-10-08

[4]

全息记录材料及全息记录介质 [P].

林田直树 ;

小须田敦子 ;

吉成次郎 .

中国专利 :CN101154034B ,2008-04-02

[5]

透明高分子材料及其制备方法 [P].

李勇进 ;

颜德岳 ;

王公善 .

中国专利 :CN1234408A ,1999-11-10

[6]

一种防伪全息高分子材料 [P].

田福祯 ;

高伟 ;

张劭 .

中国专利 :CN104045794A ,2014-09-17

[7]

全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法 [P].

吉沢久江 ;

三锅治郎 ;

小笠原康裕 ;

河野克典 ;

林和广 ;

安田晋 ;

羽贺浩一 ;

古木真 .

中国专利 :CN101281760A ,2008-10-08

[8]

氟树脂及其制备方法、全息记录介质及全息光学元件 [P].

郭斌 ;

关健 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119735726A ,2025-04-01

[9]

氟树脂及其制备方法、全息记录介质及全息光学元件 [P].

郭斌 ;

关健 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119735725A ,2025-04-01

[10]

高分子材料及其制备方法 [P].

彭代信 ;

唐波 ;

韩建 .

中国专利 :CN109054635A ,2018-12-21

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-25	公开	公开