含铜空位和氧空位的金属氧化物材料及其制备方法和应用

被引:0
申请号
CN202210926849.6
申请日
2022-08-03
公开(公告)号
CN115414941A
公开(公告)日
2022-12-02
发明(设计)人
钟燕 黄涛 胡朝浩 王殿辉 桑湉
申请人
申请人地址
541004 广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
IPC主分类号
B01J2378
IPC分类号
B01J3500 C02F130 C02F10136
代理机构
桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107
代理人
唐智芳
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
含铜空位和氧空位的金属氧化物材料及其制备方法和应用 [P]. 
钟燕 ;
黄涛 ;
胡朝浩 ;
王殿辉 ;
桑湉 .
中国专利 :CN115414941B ,2024-02-13
[2]
一种氧空位可调控锰铈氧化物材料及其制备方法和应用 [P]. 
孔令涛 ;
何军勇 ;
杨雅 ;
刘锦淮 .
中国专利 :CN112973673B ,2021-06-18
[3]
氧空位型金属氧化物半导体的制备方法 [P]. 
赵彩凤 ;
杨亚辉 ;
罗琳 ;
邵赛 ;
邵颖 ;
张乐平 .
中国专利 :CN110560022A ,2019-12-13
[4]
一种碳载金属氧化物材料及其制备方法和应用 [P]. 
李朝霞 ;
温伊博 ;
王彦斌 ;
苏琼 ;
赵向飞 ;
王永胜 ;
田运凤 ;
代雨 .
中国专利 :CN120210858A ,2025-06-27
[5]
一种铁氧体/金属氧化物材料及其制备方法和应用 [P]. 
朱凯新 ;
王军虎 .
中国专利 :CN106140173A ,2016-11-23
[6]
一种氧空位修饰的多孔镍钴氧化物纳米带材料及制备方法和应用 [P]. 
张勇 ;
姚尚智 ;
吴玉程 ;
张雪茹 ;
崔接武 ;
王岩 ;
秦永强 ;
舒霞 ;
周志尚 .
中国专利 :CN112058267A ,2020-12-11
[7]
一种含有氧空位金属氧化物及其制备方法、应用 [P]. 
王健宜 ;
高艳安 ;
黄迢 ;
任昭玮 ;
胡晓莉 ;
胡慧 ;
苏晓芳 .
中国专利 :CN120117650A ,2025-06-10
[8]
一种富氧空位铜基纳米材料及其制备方法和应用 [P]. 
李春忠 ;
李会会 ;
靳茂全 ;
沈永峻 ;
杨赛武 ;
毛小青 .
中国专利 :CN119287468A ,2025-01-10
[9]
金属氧化物催化水分解的氧空位反应路径和活性筛选方法 [P]. 
李铮 ;
高超 .
中国专利 :CN118629526A ,2024-09-10
[10]
氮掺杂与氧空位协同调控的锰基氧化物及其制备方法和应用 [P]. 
郑新华 ;
刘世凯 ;
韩碧波 .
中国专利 :CN121225657A ,2025-12-30