用于制备高折射率材料的硫改性硅烷

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980114332.X

申请日：

2009-05-12

公开(公告)号：

CN102015837B

公开(公告)日：

2011-04-13

发明(设计)人：

J·彼特奥 H·摩瑟

申请人：

申请人地址：

法国沙朗通勒蓬

IPC主分类号：

C08G7504

IPC分类号：

C08L8102

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

陈季壮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-04-13	公开	公开
2012-12-05	授权	授权
2018-03-06	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C08G 75/04 登记生效日:20180211 变更事项:专利权人变更前权利人:埃西勒国际通用光学公司变更后权利人:依视路国际公司变更事项:地址变更前权利人:法国沙朗通勒蓬变更后权利人:法国沙朗通勒蓬
2011-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101080687918 IPC(主分类):C08G 75/04 专利申请号:200980114332X 申请日:20090512

共 50 条

[1]

高折射率改性硅烷的制备方法及其应用 [P].

刘珠 ;

丁小卫 ;

祝琳 .

中国专利 :CN108409778B ,2018-08-17

[2]

高折射率材料 [P].

竹内义行 .

中国专利 :CN101484503A ,2009-07-15

[3]

高折射率材料 [P].

A·帕特森 ;

王德岩 ;

B·L·塞克马恩 ;

C·D·吉尔莫 ;

尹喜在 ;

A·D·查韦斯 ;

C·穆尔泽 ;

M·H·小霍华德 ;

J·S·梅 ;

郑周永 ;

李垠泳 .

中国专利 :CN114316137A ,2022-04-12

[4]

高折射率材料 [P].

拉吉夫·斯里瓦斯塔瓦 ;

道格拉斯·迈克尔·杜克斯 ;

林海辉 .

中国专利 :CN104583278A ,2015-04-29

[5]

高折射率材料 [P].

A·帕特森 ;

R·斯奈德 ;

G·霍斯泰特勒 ;

C·坎齐 ;

B·塞克马恩 ;

王德岩 ;

尹喜在 ;

李秀敏 ;

李禧林 .

美国专利 :CN117866195A ,2024-04-12

[6]

用于节能灯的高折射率材料 [P].

赵志博 ;

R·S·伊斯雷尔 ;

赵天吉 ;

B·A·古德 .

中国专利 :CN102187254A ,2011-09-14

[7]

高透过率、高折射率含硫光学树脂材料及其制备方法 [P].

王明华 ;

李国栋 ;

张宗弢 ;

潘敏 ;

郑永华 ;

薛晓花 ;

赵东兴 ;

刘洋 ;

司云凤 .

中国专利 :CN107200846A ,2017-09-26

[8]

高折射率的亲水性材料 [P].

帕特里克·宾视 ;

亚当·勒布耳 .

中国专利 :CN110462448A ,2019-11-15

[9]

高折射率眼科装置材料 [P].

C·勒曼 ;

C·费瑞曼 .

中国专利 :CN102016649A ,2011-04-13

[10]

高折射率光学树脂材料的制备方法 [P].

费铮翔 ;

曹根庭 .

中国专利 :CN1325943C ,2004-11-24

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