基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811191785.X

申请日：

2018-10-12

公开(公告)号：

CN109659256A

公开(公告)日：

2019-04-19

发明(设计)人：

李映一崔重奉李昇浩朴贵秀宋吉勋吴承勋金钟翰

申请人：

申请人地址：

韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

申健

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-19	公开	公开
2020-08-21	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20190419
2019-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20181012

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

李映一 ;

崔重奉 ;

李昇浩 ;

朴贵秀 ;

宋吉勋 ;

吴承勋 ;

金钟翰 .

中国专利 :CN111816592A ,2020-10-23

[2]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

方济午 ;

安迎曙 ;

李承汉 ;

李承桓 ;

金铉玟 .

中国专利 :CN114446825A ,2022-05-06

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

本田拓巳 ;

山下浩司 ;

田原真二 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110010520B ,2024-03-26

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

金康卨 ;

金兑根 ;

崔俊熙 ;

李炅珉 ;

金容准 .

韩国专利 :CN118116835A ,2024-05-31

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

宫城雅宏 ;

佐藤雅伸 ;

荒木浩之 .

中国专利 :CN101145505A ,2008-03-19

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小原隆宪 .

中国专利 :CN112825303A ,2021-05-21

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

饱本正巳 ;

北野淳一 ;

田中幸二 ;

大塚贵久 ;

南田纯也 .

中国专利 :CN114551278A ,2022-05-27

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