磁场发生装置及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010183411.0
申请日
2010-05-20
公开(公告)号
CN101893692B
公开(公告)日
2010-11-24
发明(设计)人
罗伯特·哈恩 安德烈亚斯·齐格勒
申请人
申请人地址
德国慕尼黑
IPC主分类号
G01R333815
IPC分类号
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
任宇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种强磁场发生装置及其制造工艺方法 [P]. 
张世标 ;
廖钟财 ;
李俊 ;
方红敏 ;
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[2]
静磁场发生装置 [P]. 
包健 ;
李明强 ;
刘强 ;
宗仁杰 ;
戚鑫 .
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[3]
磁共振设备中的静磁场调节方法及其静磁场发生装置 [P]. 
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[4]
磁场发生装置 [P]. 
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[5]
磁场发生装置 [P]. 
张宁 ;
王楠 ;
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[6]
磁场发生装置 [P]. 
伊东彻也 ;
正孝幸 ;
绪方康博 ;
河岛裕 .
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[7]
旋转磁场发生装置及其实现方法 [P]. 
徐建省 ;
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[8]
磁场发生装置的动作方法 [P]. 
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平川克己 ;
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[9]
可变构磁场发生装置及磁场产生方法 [P]. 
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李希铖 ;
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[10]
磁场均匀化方法和装置以及磁场发生装置 [P]. 
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