一种多层屏蔽结构的真空灭弧室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220188532.9

申请日：

2012-04-27

公开(公告)号：

CN202585235U

公开(公告)日：

2012-12-05

发明(设计)人：

周鹤铭颜安军

申请人：

申请人地址：

317507 浙江省台州市温岭市箬横镇朝西工业区

IPC主分类号：

H01H33664

IPC分类号：

H05K900

代理机构：

台州市方圆专利事务所 33107

代理人：

张智平;蔡正保

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01H 33/664 申请日:20120427 授权公告日:20121205
2012-12-05	授权	授权

共 50 条

[1]

一种高压真空灭弧室 [P].

周鹤铭 ;

刘志远 ;

林海涌 .

中国专利 :CN203521289U ,2014-04-02

[2]

一种高压真空灭弧室 [P].

周鹤铭 ;

刘志远 ;

林海涌 .

中国专利 :CN103489699A ,2014-01-01

[3]

一种真空灭弧室 [P].

陈益飞 .

中国专利 :CN206349297U ,2017-07-21

[4]

真空灭弧室 [P].

卓伍 ;

侯启金 ;

侯朝颂 ;

涂子兵 ;

董丽霞 .

中国专利 :CN203910656U ,2014-10-29

[5]

真空灭弧室 [P].

陈益飞 .

中国专利 :CN206163403U ,2017-05-10

[6]

一种真空灭弧室 [P].

刘众意 ;

胡志柱 .

中国专利 :CN210040048U ,2020-02-07

[7]

一种真空灭弧室 [P].

沈凯 ;

孙勇 ;

刘越 .

中国专利 :CN215451269U ,2022-01-07

[8]

一种真空灭弧室 [P].

圣明 .

中国专利 :CN209859867U ,2019-12-27

[9]

一种真空灭弧室 [P].

杜恒宇 ;

李廷正 ;

刘建 .

中国专利 :CN204144150U ,2015-02-04

[10]

一种真空灭弧室 [P].

何跃 ;

胡国星 ;

黄福钦 ;

陈柏良 ;

张腾飞 ;

叶小亮 ;

熊振鹏 .

中国专利 :CN221596276U ,2024-08-23

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