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半导体器件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201611021412.9
申请日
:
2016-11-15
公开(公告)号
:
CN107039278A
公开(公告)日
:
2017-08-11
发明(设计)人
:
林群雄
吴忠政
卡洛斯·H·迪亚兹
王志豪
谢文兴
许义明
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L21336
IPC分类号
:
H01L2978
H01L2908
H01L2910
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-09-05
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101745810135 IPC(主分类):H01L 21/336 专利申请号:2016110214129 申请日:20161115
2020-05-22
授权
授权
2017-08-11
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法
[P].
陈文进
论文数:
0
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陈文进
;
吴正一
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吴正一
;
郑有宏
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郑有宏
;
郭人华
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郭人华
;
刘响
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刘响
;
李锦思
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0
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李锦思
.
中国专利
:CN108231685B
,2018-06-29
[2]
半导体器件及其形成方法
[P].
陈冠霖
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈冠霖
;
江国诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江国诚
;
朱熙甯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱熙甯
;
郑嵘健
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑嵘健
;
王志豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
.
中国专利
:CN120091615A
,2025-06-03
[3]
半导体器件结构、半导体器件及其形成方法
[P].
朱家宏
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱家宏
;
王菘豊
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王菘豊
;
梁顺鑫
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
梁顺鑫
;
张旭凯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张旭凯
;
时定康
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
时定康
;
洪宗佑
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪宗佑
;
蔡邦彦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡邦彦
;
林耕竹
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林耕竹
.
中国专利
:CN113488465B
,2025-07-01
[4]
半导体器件结构、半导体器件及其形成方法
[P].
朱家宏
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朱家宏
;
王菘豊
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王菘豊
;
梁顺鑫
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梁顺鑫
;
张旭凯
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张旭凯
;
时定康
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时定康
;
洪宗佑
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洪宗佑
;
蔡邦彦
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蔡邦彦
;
林耕竹
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林耕竹
.
中国专利
:CN113488465A
,2021-10-08
[5]
半导体器件及其形成方法
[P].
洪中山
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洪中山
.
中国专利
:CN103426755A
,2013-12-04
[6]
半导体器件及其形成方法
[P].
刘金华
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刘金华
.
中国专利
:CN105336793B
,2016-02-17
[7]
半导体器件及其形成方法
[P].
胡恬
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胡恬
;
胡毓祥
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胡毓祥
;
郭宏瑞
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郭宏瑞
;
余振华
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余振华
.
中国专利
:CN111129254B
,2020-05-08
[8]
半导体器件及其形成方法
[P].
林士豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林士豪
;
魏子元
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
魏子元
.
中国专利
:CN120711803A
,2025-09-26
[9]
半导体器件及其形成方法
[P].
朱峯庆
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朱峯庆
;
李威养
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李威养
;
杨丰诚
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杨丰诚
;
陈燕铭
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陈燕铭
.
中国专利
:CN113451307A
,2021-09-28
[10]
半导体器件及其形成方法
[P].
菅原健太
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菅原健太
;
野濑幸则
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野濑幸则
.
中国专利
:CN110176492A
,2019-08-27
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