一种等离子抛光装置的循环过滤系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721413968.2

申请日：

2017-10-28

公开(公告)号：

CN207358873U

公开(公告)日：

2018-05-15

发明(设计)人：

朱方舟

申请人：

申请人地址：

325200 浙江省温州市瑞安市汀田街道联胜村大典下联中路东段

IPC主分类号：

B24B5500

IPC分类号：

B01D2927

代理机构：

瑞安市翔东知识产权代理事务所 33222

代理人：

吴闽闽

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 55/00 申请日:20171028 授权公告日:20180515 终止日期:20191028
2018-05-15	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子抛光装置 [P].

朱方舟 .

中国专利 :CN207358736U ,2018-05-15

[2]

一种等离子抛光装置 [P].

朱方舟 .

中国专利 :CN107662134A ,2018-02-06

[3]

一种等离子抛光装置 [P].

徐晨光 ;

范永亮 .

中国专利 :CN221583165U ,2024-08-23

[4]

一种便于拆装的等离子抛光装置 [P].

朱方舟 .

中国专利 :CN207358734U ,2018-05-15

[5]

一种防腐蚀的等离子抛光装置 [P].

朱方舟 .

中国专利 :CN207495138U ,2018-06-15

[6]

一种等离子过滤装置 [P].

刘广林 ;

王学锋 ;

黄滔 ;

覃椿 ;

伍晓杏 ;

彭传富 ;

廖寿学 ;

黄辛亮 ;

唐禹 ;

罗远鸿 ;

覃文 .

中国专利 :CN222056761U ,2024-11-26

[7]

一种用于异形件等离子抛光装置 [P].

王飞 ;

孙渤 ;

贺赟晖 ;

余国红 ;

刘立志 ;

初奇 .

中国专利 :CN209508448U ,2019-10-18

[8]

抛光液循环过滤系统 [P].

钟波 ;

陈贤华 ;

邓文辉 ;

张清华 ;

王健 ;

郑楠 .

中国专利 :CN210699103U ,2020-06-09

[9]

抛光液循环过滤系统 [P].

戴瑜兴 ;

杨佳葳 ;

徐兴国 ;

龚涛 .

中国专利 :CN108421303A ,2018-08-21

[10]

一种晶片等离子CMP抛光的装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN213004167U ,2021-04-20

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