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真空等离子体镀膜设备(4)
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN201930313346.0
申请日
:
2019-06-17
公开(公告)号
:
CN305516419S
公开(公告)日
:
2019-12-27
发明(设计)人
:
何培忠
申请人
:
申请人地址
:
510080 广东省广州市白云区太和镇谢家庄一队永利西街自编8号
IPC主分类号
:
1509
IPC分类号
:
代理机构
:
广州凯东知识产权代理有限公司 44259
代理人
:
贺秀梅
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-12-27
授权
授权
共 50 条
[1]
真空等离子体镀膜设备(5)
[P].
何培忠
论文数:
0
引用数:
0
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0
何培忠
.
中国专利
:CN305473056S
,2019-12-03
[2]
真空等离子体镀膜设备(1)
[P].
何培忠
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0
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0
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0
何培忠
.
中国专利
:CN305544734S
,2020-01-10
[3]
真空等离子体镀膜设备(2)
[P].
何培忠
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0
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0
何培忠
.
中国专利
:CN305473055S
,2019-12-03
[4]
真空等离子体镀膜设备(3)
[P].
何培忠
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何培忠
.
中国专利
:CN305465818S
,2019-11-29
[5]
真空等离子体工件处理设备
[P].
J.维沙特
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J.维沙特
.
中国专利
:CN110121760B
,2019-08-13
[6]
真空等离子体清洗机
[P].
蔡卫
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蔡卫
.
中国专利
:CN307072828S
,2022-01-18
[7]
一种带材真空等离子体镀膜装置
[P].
杜顺锋
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0
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杜顺锋
.
中国专利
:CN214881813U
,2021-11-26
[8]
多功能连续式真空等离子体镀膜系统
[P].
董小虹
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董小虹
;
王桂茂
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王桂茂
;
区名结
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区名结
.
中国专利
:CN204702803U
,2015-10-14
[9]
多功能连续式真空等离子体镀膜系统
[P].
董小虹
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董小虹
;
王桂茂
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王桂茂
;
区名结
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区名结
.
中国专利
:CN104862662B
,2015-08-26
[10]
真空等离子体发生器
[P].
米夏埃多·格吕克
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米夏埃多·格吕克
;
克里斯托夫·霍夫施泰托尔
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克里斯托夫·霍夫施泰托尔
;
格尔德·欣茨
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格尔德·欣茨
.
中国专利
:CN1832657A
,2006-09-13
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