真空等离子体镀膜设备(4)

被引:0
专利类型
外观设计
申请号
CN201930313346.0
申请日
2019-06-17
公开(公告)号
CN305516419S
公开(公告)日
2019-12-27
发明(设计)人
何培忠
申请人
申请人地址
510080 广东省广州市白云区太和镇谢家庄一队永利西街自编8号
IPC主分类号
1509
IPC分类号
代理机构
广州凯东知识产权代理有限公司 44259
代理人
贺秀梅
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
真空等离子体镀膜设备(5) [P]. 
何培忠 .
中国专利 :CN305473056S ,2019-12-03
[2]
真空等离子体镀膜设备(1) [P]. 
何培忠 .
中国专利 :CN305544734S ,2020-01-10
[3]
真空等离子体镀膜设备(2) [P]. 
何培忠 .
中国专利 :CN305473055S ,2019-12-03
[4]
真空等离子体镀膜设备(3) [P]. 
何培忠 .
中国专利 :CN305465818S ,2019-11-29
[5]
真空等离子体工件处理设备 [P]. 
J.维沙特 .
中国专利 :CN110121760B ,2019-08-13
[6]
真空等离子体清洗机 [P]. 
蔡卫 .
中国专利 :CN307072828S ,2022-01-18
[7]
一种带材真空等离子体镀膜装置 [P]. 
杜顺锋 .
中国专利 :CN214881813U ,2021-11-26
[8]
多功能连续式真空等离子体镀膜系统 [P]. 
董小虹 ;
王桂茂 ;
区名结 .
中国专利 :CN204702803U ,2015-10-14
[9]
多功能连续式真空等离子体镀膜系统 [P]. 
董小虹 ;
王桂茂 ;
区名结 .
中国专利 :CN104862662B ,2015-08-26
[10]
真空等离子体发生器 [P]. 
米夏埃多·格吕克 ;
克里斯托夫·霍夫施泰托尔 ;
格尔德·欣茨 .
中国专利 :CN1832657A ,2006-09-13