基于介电泳效应的抛光设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201320302214.5
申请日
2013-05-29
公开(公告)号
CN203282283U
公开(公告)日
2013-11-13
发明(设计)人
邓乾发 周芬芬 吕冰海 袁巨龙 郭伟刚 郁炜 赵萍 厉淦 赵天晨
申请人
申请人地址
310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号
IPC主分类号
B24B100
IPC分类号
代理机构
杭州天正专利事务所有限公司 33201
代理人
王兵;黄美娟
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
基于介电泳效应的抛光方法及其专有设备 [P]. 
邓乾发 ;
周芬芬 ;
吕冰海 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
郁炜 ;
赵萍 ;
厉淦 ;
赵天晨 .
中国专利 :CN103264321A ,2013-08-28
[2]
基于介电泳效应的摆动式研磨/抛光设备 [P]. 
邓乾发 ;
赵天晨 ;
吕冰海 ;
毛美姣 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
郁炜 ;
厉淦 ;
吴喆 .
中国专利 :CN203401358U ,2014-01-22
[3]
基于介电泳效应的摆动式研磨/抛光设备 [P]. 
邓乾发 ;
赵天晨 ;
吕冰海 ;
毛美姣 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
郁炜 ;
厉淦 ;
吴喆 .
中国专利 :CN103465111A ,2013-12-25
[4]
基于介电泳效应的定偏心式研磨/抛光设备 [P]. 
邓乾发 ;
毛美姣 ;
吕冰海 ;
赵天晨 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
郁炜 ;
厉淦 ;
周芬芬 .
中国专利 :CN203471528U ,2014-03-12
[5]
基于介电泳效应的定偏心式研磨/抛光设备 [P]. 
邓乾发 ;
毛美姣 ;
吕冰海 ;
赵天晨 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
郁炜 ;
厉淦 ;
周芬芬 .
中国专利 :CN103433832A ,2013-12-11
[6]
基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备 [P]. 
邓乾发 ;
钟美鹏 ;
吕冰海 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
王洁 ;
姚蔚峰 ;
赵天晨 ;
周芬芬 .
中国专利 :CN103433841A ,2013-12-11
[7]
基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备 [P]. 
邓乾发 ;
钟美鹏 ;
吕冰海 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
王洁 ;
姚蔚峰 ;
赵天晨 ;
周芬芬 .
中国专利 :CN203401387U ,2014-01-22
[8]
具有粘弹性流体-抛光液介电泳复合效应的抛光头 [P]. 
邓乾发 ;
聂文涛 ;
张程麒 ;
吕冰海 ;
陈泓谕 ;
王佳焕 ;
韩云晓 .
中国专利 :CN119141442A ,2024-12-17
[9]
基于介电泳效应的保持架偏心转摆式双平面研磨/抛光圆柱形零件设备 [P]. 
邓乾发 ;
姚蔚峰 ;
吕冰海 ;
袁巨龙 ;
钟美鹏 ;
郭伟刚 ;
王洁 ;
赵天晨 ;
周芬芬 .
中国专利 :CN103433840A ,2013-12-11
[10]
基于介电泳效应的保持架偏心转摆式双平面研磨/抛光圆柱形零件设备 [P]. 
邓乾发 ;
姚蔚峰 ;
吕冰海 ;
袁巨龙 ;
郭伟刚 ;
王洁 ;
钟美鹏 ;
赵天晨 .
中国专利 :CN203401386U ,2014-01-22