像素结构的制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710161687.7

申请日：

2007-09-28

公开(公告)号：

CN101131966B

公开(公告)日：

2008-02-27

发明(设计)人：

詹勋昌杨智钧黄明远林汉涂石志鸿廖达文蔡佳琪

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

H01L2184

IPC分类号：

H01L21768

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

任默闻

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-02-27	公开	公开
2008-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-09-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/84 申请日:20070928 授权公告日:20101006 终止日期:20200928
2010-10-06	授权	授权

共 50 条

[1]

像素结构的制作方法 [P].

方国龙 ;

杨智钧 ;

黄明远 ;

林汉涂 ;

石志鸿 ;

廖达文 ;

詹勋昌 ;

蔡佳琪 .

中国专利 :CN101197332A ,2008-06-11

[2]

像素结构的制作方法 [P].

廖达文 ;

童振邦 ;

张家铭 ;

张宗隆 ;

赖哲永 ;

江俊毅 ;

余宙桓 ;

萧祥志 ;

周汉唐 ;

张峻恺 .

中国专利 :CN101330061A ,2008-12-24

[3]

像素结构的制作方法 [P].

杨智钧 ;

黄明远 ;

林汉涂 ;

石志鸿 ;

廖达文 ;

方国龙 ;

蔡佳琪 .

中国专利 :CN101315909A ,2008-12-03

[4]

像素结构的制作方法 [P].

方国龙 ;

杨智钧 ;

黄明远 ;

林汉涂 ;

石志鸿 ;

廖达文 ;

詹勋昌 ;

蔡佳琪 .

中国专利 :CN102903678A ,2013-01-30

[5]

像素结构的制作方法 [P].

方国龙 ;

杨智钧 ;

黄明远 ;

林汉涂 ;

石志鸿 ;

廖达文 ;

詹勋昌 ;

蔡佳琪 .

中国专利 :CN102097390B ,2011-06-15

[6]

像素结构的制作方法 [P].

黄明远 ;

杨智钧 ;

林汉涂 ;

石志鸿 ;

廖达文 ;

廖金阅 ;

蔡佳琪 .

中国专利 :CN100565845C ,2008-01-30

[7]

像素结构以及像素结构的制作方法 [P].

叶政谚 .

中国专利 :CN109659310B ,2019-04-19

[8]

像素结构及其制作方法 [P].

郝思坤 .

中国专利 :CN103558719A ,2014-02-05

[9]

像素结构及其制作方法 [P].

颜思琳 ;

江佳铭 .

中国专利 :CN101894835B ,2010-11-24

[10]

像素结构及其制作方法 [P].

周政伟 .

中国专利 :CN103872142A ,2014-06-18

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