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一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710322187.0
申请日：
2017-05-09
公开(公告)号：
CN108728808A
公开(公告)日：
2018-11-02
发明(设计)人：
李伟
张奇龙
申请人：
申请人地址：
310000 浙江省杭州市西湖区文三路20号1号楼11层1106室
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-02-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20170509 |
| 2021-06-01 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 14/35 申请公布日:20181102 |
| 2018-11-02 | 公开 | 公开 |