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用于控制等离子体偏斜的远程等离子体源
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610141134.4
申请日
:
2016-03-11
公开(公告)号
:
CN105977125B
公开(公告)日
:
2016-09-28
发明(设计)人
:
A·A·哈贾
M·阿优伯
R·博卡
J·D·平森二世
J·C·罗查-阿尔瓦瑞斯
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
黄嵩泉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-02-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160311
2016-09-28
公开
公开
2019-07-19
授权
授权
共 50 条
[1]
用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源
[P].
金南宪
论文数:
0
引用数:
0
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0
金南宪
.
中国专利
:CN101040366A
,2007-09-19
[2]
远程等离子体源和具有所述远程等离子体源的等离子体处理腔室
[P].
杨扬
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0
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0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
杨扬
;
K·拉马斯瓦米
论文数:
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
K·拉马斯瓦米
;
F·斯李维亚
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
F·斯李维亚
;
I·尤瑟夫
论文数:
0
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0
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0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
I·尤瑟夫
.
美国专利
:CN121153099A
,2025-12-16
[3]
等离子体源
[P].
酒井滋树
论文数:
0
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0
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0
酒井滋树
;
高桥正人
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高桥正人
.
中国专利
:CN1269692A
,2000-10-11
[4]
等离子体源
[P].
藤田秀树
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藤田秀树
;
糸井骏
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糸井骏
.
中国专利
:CN109119314A
,2019-01-01
[5]
等离子体源
[P].
S·克拉斯尼特泽
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S·克拉斯尼特泽
;
J·哈格曼恩
论文数:
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0
J·哈格曼恩
.
中国专利
:CN105144338A
,2015-12-09
[6]
等离子体源
[P].
井内裕
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井内裕
;
谷井正博
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0
谷井正博
.
中国专利
:CN103779155B
,2014-05-07
[7]
等离子体源
[P].
井内裕
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0
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0
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0
井内裕
.
中国专利
:CN304546178S
,2018-03-20
[8]
等离子体源
[P].
加里·普劳德富特
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加里·普劳德富特
;
克里斯托弗·戴维·乔治
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克里斯托弗·戴维·乔治
;
保罗·埃杜拉多·利马
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保罗·埃杜拉多·利马
.
中国专利
:CN101490794A
,2009-07-22
[9]
等离子体源
[P].
维克托·贝利多-刚扎雷兹
论文数:
0
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0
维克托·贝利多-刚扎雷兹
.
中国专利
:CN104718598A
,2015-06-17
[10]
等离子体源
[P].
弗洛林·丹尼尔·多米尼克
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0
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弗洛林·丹尼尔·多米尼克
;
文森特·勒克莱尔
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文森特·勒克莱尔
;
埃里克·西尔伯伯格
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埃里克·西尔伯伯格
;
阿兰·丹尼尔
论文数:
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0
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阿兰·丹尼尔
.
中国专利
:CN104996000B
,2015-10-21
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