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含铜材料用蚀刻剂组合物及含铜材料的蚀刻方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201010219665.3
申请日
:
2010-07-07
公开(公告)号
:
CN101949014B
公开(公告)日
:
2011-01-19
发明(设计)人
:
中村裕介
岸裕一郎
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
C23F118
IPC分类号
:
H05K306
代理机构
:
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290
代理人
:
李雪春;武玉琴
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-01-19
公开
公开
2012-03-21
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101208117625 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2010102196653 申请日:20100707
2013-07-24
授权
授权
共 50 条
[1]
含铜材料用蚀刻剂组合物及含铜材料的蚀刻方法
[P].
正元祐次
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0
引用数:
0
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正元祐次
;
下泽正和
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下泽正和
.
中国专利
:CN101949013A
,2011-01-19
[2]
含铜材料用蚀刻剂组合物及含铜材料的蚀刻方法
[P].
正元祐次
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正元祐次
;
下泽正和
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下泽正和
.
中国专利
:CN105386055B
,2016-03-09
[3]
含铜材料用蚀刻剂组合物
[P].
池田公彦
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池田公彦
;
中村裕介
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中村裕介
;
正元祐次
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正元祐次
;
下泽正和
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下泽正和
.
中国专利
:CN101498000B
,2009-08-05
[4]
含铜材料
[P].
C·M·洛克
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C·M·洛克
.
中国专利
:CN1509811A
,2004-07-07
[5]
含铜材料
[P].
C·M·洛克
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C·M·洛克
.
中国专利
:CN1140342C
,2001-05-02
[6]
含铜材料的湿式蚀刻系统和图案化方法
[P].
中村裕介
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中村裕介
.
中国专利
:CN102471897A
,2012-05-23
[7]
无色含铜材料
[P].
J·拉希瑞
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J·拉希瑞
;
J·G·林
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J·G·林
;
F·C·M·韦里耶
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F·C·M·韦里耶
.
中国专利
:CN107735374B
,2018-02-23
[8]
含铜材料的处理方法
[P].
S-E·赫索姆
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S-E·赫索姆
;
S·埃尔玛拉
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S·埃尔玛拉
;
T·理塔萨罗
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T·理塔萨罗
;
M·罗纳拉
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M·罗纳拉
.
中国专利
:CN101120108A
,2008-02-06
[9]
吹炼含铜材料的方法
[P].
M·拉赫蒂宁
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M·拉赫蒂宁
;
J·皮赫拉萨罗
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J·皮赫拉萨罗
;
M·贾夫斯
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M·贾夫斯
.
中国专利
:CN106332549A
,2017-01-11
[10]
成膜组合物、含铜材料的表面处理方法、应用
[P].
方啸
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机构:
广东华智芯电子科技有限公司
广东华智芯电子科技有限公司
方啸
;
徐俊
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机构:
广东华智芯电子科技有限公司
广东华智芯电子科技有限公司
徐俊
;
文军
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机构:
广东华智芯电子科技有限公司
广东华智芯电子科技有限公司
文军
.
中国专利
:CN118186385A
,2024-06-14
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