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流体的发射光谱设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201690001075.4
申请日
:
2016-07-08
公开(公告)号
:
CN208060392U
公开(公告)日
:
2018-11-06
发明(设计)人
:
M·萨洛宁
L·克雷萨尔
K·塞罗海默
P·希耶塔林塔
A·奥利凯宁
申请人
:
申请人地址
:
芬兰埃斯波
IPC主分类号
:
G01N2171
IPC分类号
:
G01N2167
G01N2115
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
:
朱巧博
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-06
授权
授权
共 50 条
[1]
流体的发射光谱设备
[P].
M·萨洛宁
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0
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M·萨洛宁
;
L·克雷萨尔
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L·克雷萨尔
;
K·塞罗海默
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K·塞罗海默
;
M·肯盖斯
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M·肯盖斯
;
A·奥利凯宁
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A·奥利凯宁
.
中国专利
:CN208000272U
,2018-10-23
[2]
元素发射光谱激发装置
[P].
武士学
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武士学
.
中国专利
:CN201681049U
,2010-12-22
[3]
发射光谱仪
[P].
余展鹏
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余展鹏
.
中国专利
:CN206601335U
,2017-10-31
[4]
原子发射光谱激发源及其原子发射光谱分析装置
[P].
蒋小明
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蒋小明
;
侯贤灯
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侯贤灯
;
何林
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何林
;
吴鹏
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吴鹏
.
中国专利
:CN212059915U
,2020-12-01
[5]
发射光谱的表观浓度法
[P].
姚泰煜
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姚泰煜
.
中国专利
:CN87103303A
,1987-11-18
[6]
发射光谱法的改进
[P].
P·兰库巴
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P·兰库巴
.
中国专利
:CN114729881A
,2022-07-08
[7]
易于调节的光学发射光谱仪
[P].
安德烈·佩特斯
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安德烈·佩特斯
;
莱纳·西蒙斯
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莱纳·西蒙斯
.
中国专利
:CN114585906A
,2022-06-03
[8]
易于调节的光学发射光谱仪
[P].
安德烈·佩特斯
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机构:
日立高科技分析科学有限公司
日立高科技分析科学有限公司
安德烈·佩特斯
;
莱纳·西蒙斯
论文数:
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机构:
日立高科技分析科学有限公司
日立高科技分析科学有限公司
莱纳·西蒙斯
.
德国专利
:CN114585906B
,2025-09-19
[9]
金属测定用等离子体发射光谱
[P].
马凯杰
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机构:
仕宝(天津)技术检测有限公司
仕宝(天津)技术检测有限公司
马凯杰
.
中国专利
:CN220399285U
,2024-01-26
[10]
火花光学发射光谱的等离子体控制
[P].
P·兰库巴
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机构:
塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司
塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司
P·兰库巴
;
S·凯洛格
论文数:
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机构:
塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司
塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司
S·凯洛格
.
:CN117529975A
,2024-02-06
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