新型电化学抛光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410074980.X

申请日：

2014-03-03

公开(公告)号：

CN104894634A

公开(公告)日：

2015-09-09

发明(设计)人：

贾照伟王坚王晖

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢

IPC主分类号：

C25F312

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陆勍

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-13	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C25F 3/12 申请公布日:20150909
2015-09-09	公开	公开
2017-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101706783517 IPC(主分类):C25F 3/12 专利申请号:201410074980X 申请日:20140303

共 50 条

[1]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[2]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[3]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[4]

电化学抛光装置和方法 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN104032366A ,2014-09-10

[5]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

[6]

一种电化学抛光方法与电化学抛光装置 [P].

邓辉 .

中国专利 :CN107488872B ,2017-12-19

[7]

电化学抛光设备 [P].

杨宏超 ;

金一诺 ;

张怀东 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN105316755A ,2016-02-10

[8]

一种用于电化学抛光仪器的阴极工装和电化学抛光仪器 [P].

梁婷婷 ;

宋建华 .

中国专利 :CN221501297U ,2024-08-09

[9]

电化学抛光装置、罐体的电化学抛光方法和罐体的制备方法 [P].

于丽 .

中国专利 :CN113832531A ,2021-12-24

[10]

电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法 [P].

钟生平 ;

高洪亮 ;

赵迎红 ;

刘睿 .

中国专利 :CN102251268B ,2011-11-23

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