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电极结构及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201580073187.0
申请日
:
2015-11-11
公开(公告)号
:
CN107112143A
公开(公告)日
:
2017-08-29
发明(设计)人
:
帕特里克·格兰特
黄淳
申请人
:
申请人地址
:
英国牛津郡
IPC主分类号
:
H01G1128
IPC分类号
:
H01G1186
H01M404
H01M4131
H01M4133
H01M4139
H01M436
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
顾丽波;井杰
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-11-06
授权
授权
2017-08-29
公开
公开
2017-09-22
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101749370308 IPC(主分类):H01G 11/28 专利申请号:2015800731870 申请日:20151111
共 50 条
[1]
电极结构及其制造方法
[P].
约翰·D·阿菲尼托
论文数:
0
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0
约翰·D·阿菲尼托
;
格雷戈里·K·洛
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格雷戈里·K·洛
.
中国专利
:CN103947027A
,2014-07-23
[2]
电极结构及其制造方法
[P].
R·施密特
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R·施密特
;
H·佐默
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H·佐默
;
J·汤姆弗尔德
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J·汤姆弗尔德
;
A·潘琴科
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A·潘琴科
;
H·施奈德
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H·施奈德
;
K·莱特纳
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K·莱特纳
;
C·斯考尔迪里斯-凯利
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C·斯考尔迪里斯-凯利
;
T·凯利
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T·凯利
;
S·伯恩赛德
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0
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0
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0
S·伯恩赛德
.
中国专利
:CN105190966B
,2015-12-23
[3]
电极结构及其制造方法
[P].
一之濑博文
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一之濑博文
;
长谷部明男
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长谷部明男
;
村上勉
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村上勉
;
新仓谕
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新仓谕
;
上野雪绘
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0
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上野雪绘
.
中国专利
:CN1127150C
,1998-06-17
[4]
电极结构及其制造方法
[P].
方伟权
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0
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0
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
方伟权
.
中国专利
:CN120527163A
,2025-08-22
[5]
电极结构及其制造方法
[P].
陈文龙
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陈文龙
;
卢文龙
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卢文龙
;
曾榆钧
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0
曾榆钧
.
中国专利
:CN102270074A
,2011-12-07
[6]
电极结构体及其制造方法
[P].
堺勇树
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堺勇树
;
菅原绘美
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0
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菅原绘美
.
中国专利
:CN107408699B
,2017-11-28
[7]
MEMS电极结构及其制造方法
[P].
刘善善
论文数:
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0
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刘善善
;
朱黎敏
论文数:
0
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0
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0
朱黎敏
.
中国专利
:CN109160486B
,2019-01-08
[8]
多孔电极及其制造方法
[P].
弗雷德里克·P·科伯
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0
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弗雷德里克·P·科伯
;
奥斯卡·V·蒙蒂富斯科
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0
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0
奥斯卡·V·蒙蒂富斯科
.
中国专利
:CN1010633B
,1987-05-27
[9]
电极结构及其制造方法和包括电极结构的二次电池
[P].
郑熙树
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
郑熙树
;
朴辉烈
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴辉烈
;
金敬焕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金敬焕
;
孙精国
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
孙精国
;
李俊亨
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李俊亨
;
任成镇
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
任成镇
;
许晋硕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
许晋硕
.
韩国专利
:CN111146403B
,2024-08-23
[10]
电极结构及其制造方法和包括电极结构的二次电池
[P].
郑熙树
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郑熙树
;
朴辉烈
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朴辉烈
;
金敬焕
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金敬焕
;
孙精国
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孙精国
;
李俊亨
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李俊亨
;
任成镇
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任成镇
;
许晋硕
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许晋硕
.
中国专利
:CN111146403A
,2020-05-12
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