基板处理装置的冷却靶座

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN200730330128.5

申请日：

2007-10-25

公开(公告)号：

CN300853016D

公开(公告)日：

2008-11-26

发明(设计)人：

筒井润一郎片冈裕司井上哲也

申请人：

申请人地址：

日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地

IPC主分类号：

1599

IPC分类号：

代理机构：

上海恩田旭诚知识产权代理有限公司

代理人：

洪磊

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-11-26	授权	授权
2017-11-24	专利权的终止	专利权有效期届满主分类号:15-99 申请日:20071025 授权公告日:20081126

共 50 条

[1]

基板处理装置的冷却靶座 [P].

筒井润一郎 ;

片冈裕司 ;

井上哲也 .

中国专利 :CN300873773D ,2009-01-14

[2]

基板处理装置的冷却靶座 [P].

筒井润一郎 ;

片冈裕司 ;

井上哲也 .

中国专利 :CN300943046D ,2009-06-17

[3]

基板处理装置用喷嘴座 [P].

岛田宽哲 .

中国专利 :CN307137065S ,2022-03-01

[4]

冷却装置、基板处理装置、冷却方法及基板处理方法 [P].

出村健介 .

中国专利 :CN113707574A ,2021-11-26

[5]

基板处理装置和基板的冷却方法 [P].

长谷川孝祐 ;

阿部智昭 .

中国专利 :CN108335998A ,2018-07-27

[6]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300837578D ,2008-10-08

[7]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300841707D ,2008-10-22

[8]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300909192D ,2009-04-15

[9]

基板冷却系统、基板处理装置、静电吸盘及基板冷却方法 [P].

古屋敦城 .

中国专利 :CN103107119B ,2013-05-15

[10]

基板处理装置和用于提高基板的冷却效率的方法 [P].

赵旼熙 ;

安熙满 ;

宋京院 ;

李周美 ;

朴天雨 ;

金炳辉 .

韩国专利 :CN117917756A ,2024-04-23

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