双端磁控溅射离子镀膜机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN94237225.5

申请日：

1994-04-27

公开(公告)号：

CN2186249Y

公开(公告)日：

1994-12-28

发明(设计)人：

彭传才魏敏胡云慧田雨时刘重光金昭廷黄广连

申请人：

申请人地址：

410073湖南省长沙市国防科技大学四系

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

湖南省专利服务中心

代理人：

乔清杰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1994-12-28	授权	授权
2003-06-04	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止

共 50 条

[1]

磁控溅射离子镀膜机 [P].

黄毓彬 .

中国专利 :CN306542169S ,2021-05-14

[2]

高温立式双端离子镀膜机 [P].

王振东 .

中国专利 :CN2286188Y ,1998-07-15

[3]

真空磁控溅射镀膜机 [P].

董旺鹏 .

中国专利 :CN209798092U ,2019-12-17

[4]

真空磁控溅射镀膜机 [P].

林锡强 ;

陈孝田 .

中国专利 :CN201793725U ,2011-04-13

[5]

真空磁控溅射镀膜机 [P].

朱国朝 ;

袁安素 ;

沈学忠 ;

温振伟 .

中国专利 :CN206692724U ,2017-12-01

[6]

磁控溅射镀膜机 [P].

徐旻生 ;

庄炳河 ;

王应斌 ;

龚文志 ;

张亮 ;

李永杰 .

中国专利 :CN209537612U ,2019-10-25

[7]

磁控溅射镀膜机 [P].

崔娜 ;

朱辉 ;

闫丽娜 ;

张卫 ;

康林杰 ;

郄奕 .

中国专利 :CN205258594U ,2016-05-25

[8]

多功能离子镀膜机 [P].

郭远纪 ;

黄克良 ;

张贵隆 ;

王桂书 .

中国专利 :CN2194365Y ,1995-04-12

[9]

真空离子镀膜机 [P].

苏东艺 .

中国专利 :CN201265040Y ,2009-07-01

[10]

真空离子镀膜机 [P].

石芳萍 .

中国专利 :CN204265829U ,2015-04-15

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