半导体用洗涤液及使用该洗涤液的洗涤方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380035843.9

申请日：

2013-07-08

公开(公告)号：

CN104412370B

公开(公告)日：

2015-03-11

发明(设计)人：

佐佐卓志垣修平

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B08B9027 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

段承恩;田欣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-11	公开	公开
2018-05-11	授权	授权
2015-07-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101618683652 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:2013800358439 申请日:20130708

共 50 条

[1]

洗涤液及使用该洗涤液的洗涤方法 [P].

林田一良 ;

水田浩德 ;

加藤岳久 .

中国专利 :CN1711627A ,2005-12-21

[2]

半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法 [P].

并木拓海 ;

原口高之 ;

施仁杰 .

中国专利 :CN108701608A ,2018-10-23

[3]

半导体基板洗涤液以及半导体基板的洗涤方法 [P].

富田宽 ;

山田裕司 ;

山田浩玲 ;

石川典夫 ;

阿部优美子 .

中国专利 :CN1733879A ,2006-02-15

[4]

洗涤液及使用其的洗涤方法 [P].

松永裕嗣 ;

大户秀 ;

山田健二 ;

清水英贵 ;

津金贤 ;

小国诚基 ;

木村善哉 .

中国专利 :CN1526807A ,2004-09-08

[5]

半导体基板洗涤液组合物 [P].

村上丰 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN101580774A ,2009-11-18

[6]

半导体基板洗涤液组合物 [P].

阿部优美子 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN1542110A ,2004-11-03

[7]

光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法 [P].

越山淳 ;

泽田佳宏 ;

横谷次朗 ;

平野智之 .

中国专利 :CN101313385B ,2008-11-26

[8]

石川典夫 ;

森清人 ;

青木秀充 .

中国专利 :CN1203163C ,1999-03-17

[9]

洗涤液的制作方法及洗涤液 [P].

舒文一 ;

王英南 ;

吴磊 ;

徐海波 ;

孙涛 ;

虞虎 .

中国专利 :CN104987959A ,2015-10-21

[10]

吉成佑治 ;

高井政贵 ;

羽鸟信 ;

山本大辅 .

中国专利 :CN101139547A ,2008-03-12

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