一种高效、高均匀性被动光束匀光整形照明系统

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专利类型
发明
申请号
CN201711193939.4
申请日
2017-11-24
公开(公告)号
CN107656415A
公开(公告)日
2018-02-02
发明(设计)人
尹亚铁 王亮 王建华
申请人
申请人地址
100023 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十四街20号院11号楼4层423
IPC主分类号
G03B2120
IPC分类号
G02B2709
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种高效、高均匀性被动光束匀光整形照明系统 [P]. 
尹亚铁 ;
王亮 ;
王建华 .
中国专利 :CN207408730U ,2018-05-25
[2]
一种半导体激光器阵列光束整形照明系统 [P]. 
严惠民 ;
姜燕冰 ;
张秀达 .
中国专利 :CN201401667Y ,2010-02-10
[3]
用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统 [P]. 
孙建华 ;
卢长信 ;
张哲子 ;
杨英姿 .
中国专利 :CN203101668U ,2013-07-31
[4]
用于对半导体激光光束整形的匀光异形透镜、匀光激光光源及光学系统 [P]. 
孙建华 ;
卢长信 ;
张哲子 ;
杨英姿 .
中国专利 :CN103176226A ,2013-06-26
[5]
一种光束整形装置 [P]. 
林学春 ;
林谷宜 ;
赵鹏飞 ;
常亮 ;
于海娟 .
中国专利 :CN110568622B ,2019-12-13
[6]
一种光束整形器件 [P]. 
林妩媚 ;
廖志杰 ;
邱传凯 ;
刘银辉 ;
邢廷文 ;
张海波 .
中国专利 :CN102162925A ,2011-08-24
[7]
一种高光成像均匀照明系统 [P]. 
郑志忠 ;
董金鑫 ;
修连存 ;
李晓凯 .
中国专利 :CN211978115U ,2020-11-20
[8]
一种半导体激光照明中的高质量光束匀化装置 [P]. 
张平 ;
李刚 ;
蔡珂珺 ;
朱佳丽 ;
戴哲彬 .
中国专利 :CN205942115U ,2017-02-08
[9]
一种半导体激光照明中的高质量光束匀化方法 [P]. 
张平 ;
李刚 ;
蔡珂珺 ;
朱佳丽 ;
戴哲彬 .
中国专利 :CN106094222A ,2016-11-09
[10]
一种光束整形系统 [P]. 
吴冬兵 ;
王文秀 ;
付大明 ;
马志成 .
中国专利 :CN209239279U ,2019-08-13