高分子化合物及使用其的发光元件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201880042746.5
申请日
2018-06-27
公开(公告)号
CN110799571B
公开(公告)日
2020-02-14
发明(设计)人
松本龙二 广井结希 吉田大泰 福岛大介
申请人
申请人地址
日本国东京都
IPC主分类号
C08G6112
IPC分类号
C09K1106 H01L5150
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
朱丹
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子化合物及使用该高分子化合物的发光元件 [P]. 
吉田大泰 ;
白鸟美樱 .
中国专利 :CN106103537A ,2016-11-09
[2]
高分子化合物及使用其的发光元件 [P]. 
白鸟美樱 ;
榊原显 ;
福岛大介 ;
吉田大泰 .
中国专利 :CN108026254A ,2018-05-11
[3]
高分子化合物及使用该高分子化合物的发光元件 [P]. 
中谷智也 ;
川口惠子 .
中国专利 :CN102149742B ,2011-08-10
[4]
高分子化合物及使用其的高分子发光元件 [P]. 
野口公信 ;
铃木智之 ;
安立诚 .
中国专利 :CN101516962B ,2009-08-26
[5]
高分子化合物和使用其的发光元件 [P]. 
福岛大介 ;
后藤修 ;
浅田浩平 ;
秋野喜彦 .
中国专利 :CN102292375A ,2011-12-21
[6]
高分子化合物及用其形成的高分子发光元件 [P]. 
福岛大介 ;
津幡义昭 ;
安立诚 .
中国专利 :CN101360773B ,2009-02-04
[7]
高分子化合物、其制造方法及使用了该高分子化合物的发光元件 [P]. 
吉田大泰 ;
花冈秀典 ;
森胁章太 .
中国专利 :CN102725326A ,2012-10-10
[8]
高分子化合物及使用其的发光元件 [P]. 
吉田大泰 ;
岩仓和宪 .
中国专利 :CN103270078A ,2013-08-28
[9]
胺系高分子化合物及使用该胺系高分子化合物的发光元件 [P]. 
大内一荣 ;
安立诚 .
中国专利 :CN101878241B ,2010-11-03
[10]
高分子化合物以及使用该高分子化合物的高分子发光元件 [P]. 
小林重也 ;
小林谕 .
中国专利 :CN101124259A ,2008-02-13